监测等离子体,电子密度制备工艺技术合集图文全套

请记住资料编号：GY10001-19558 资料价格:198元

1、监测报警处理方法、装置及等离子体加工设备

[简介]：本套资料提供一种监测报警处理方法、装置及等离子体加工设备，该监测报警处理方法包括：根据容忍时间和监测周期获取容忍次数，所述容忍时间对应工艺过程的某一连续时间段；根据所述监测周期获取被监测参数的监测值；判断每次所...

2、监测报警处理方法、装置及等离子体加工设备

[简介]：本套资料提出了一种基于FTIR光谱监测的等离子体刻蚀机内部状态维护方法，在等离子体刻蚀机的反应腔室外壁开一个窗口，安装内反射晶体，在窗口的一端安装ATR-FTIR光谱探针，另一端安装*探测器，使傅里叶变换*光谱探针发...

3、基于FTIR光谱监测的等离子体刻蚀机内部状态维护方法

[简介]：一种气体传感器和气体感测的方法，例如使用下游传感器元件来测定使用含卤素的等离子体和或者含氧的等离子体的半导体蚀刻设备中的等离子体状态如等离子体蚀刻终点。这样的传感器元件能指示在由等离子体产生的高能气体...

4、监测蚀刻等离子体加工设备中等离子体状态的方法和装置

[简介]：一种用于监测等离子体中的离子种类的飞行时间离子感测器包括外壳。漂移管定位于所述外壳中。提取器电极在所述外壳中定位于所述漂移管的一第一末端处，以便自等离子体吸引离子。多个电极定位于所述漂移管的一第一末端处并接...

5、监测和控制等离子体制造工艺的技术

[简介]：用于在基本无氧和氮的等离子体灰化处理中监测氧和或氮的水平的方法通常包括使用光*监测所述等离子体。监测所存在的低水平的氧和或氮物种对所述等离子体中通常富含的其它物种所产生的效应，并且使其与所述等离子体中...

6、在基本无氧和氮的等离子体灰化处理中监测氧和或氮物种的水平的方法

[简介]：本套资料涉及一种对等离子体刻蚀进行定量监测的方法及监测结构，其是在被刻蚀的硅片上设置一包括可动电极和固定电极的监测结构，监测结构包括一可动电极和一固定电极，当需要对硅片的刻蚀进行控制时，通过多次刻蚀和测量所述...

7、一种对等离子体刻蚀进行定量监测的方法及结构

[简介]：本套资料涉及一种用于检测蚀刻工序等的结束点以及腔室内产生的电弧的电弧检测系统。该系统包括：与腔室连接的光谱仪；与腔室连接的电弧传感器；以及与所述光谱仪和所述电弧传感器连接的检测和控制模块。其中，所述检测和控制模...

8、等离子体监测系统

[简介]：本套资料主要内容为一种可监测刻蚀过程的等离子体处理装置，在基片外周围设置一移动环，在移动环上设置一通光孔，通过将通光孔的孔宽度和孔深度的比例范围*在1∶4-3∶4之间，使得反应气体与待处理基片反应后的产物等离子体化后...

9、一种可监测刻蚀过程的等离子体处理装置

[简介]：本套资料提供一种即使在低电子密度条件或高压力条件下也可正确测定等离子体中的电子密度的等离子体监测方法。该等离子体电子密度测定装置在测定部54中具备矢量式的网络分析器68。由该网络分析器68测定复数表示的反射系数，...

10、等离子体监测方法、等离子体监测装置和等离子体处理装置

[简介]：一种用于使用一个提供高瞬时功率脉冲和具有宽光谱宽度的脉冲闪光灯、原位监测薄膜厚度以及刻蚀或淀积速率的干涉测量方法和装置。闪光灯与用于检测从一晶片反射的光的光谱摄制仪之间的光路实质上对于光谱的紫外线区是可透...

11、使用脉动宽带光源原位监测等离子体刻蚀和淀积工艺的方法和装置

[简介]：本套资料提供一种即使在低电子密度条件或高压力条件下也可正确测定等离子体中的电子密度的等离子体监测方法。该等离子体电子密度测定装置在测定部54中具备矢量式的网络分析器68。由该网络分析器68测定复数表示的反射...

12、等离子体监测方法和等离子体监测装置

13、等离子体监测方法和等离子体监测装置

[简介]：一种等离子体刻蚀的终点监测方法，在进行等离子体刻蚀的反应室内壁形成刻蚀交换层；在反应室内通入刻蚀剂对被刻蚀膜层进行等离子刻蚀，刻蚀交换层中包含所述刻蚀剂中包含的元素；监测反应室内被刻蚀膜层的OES曲线，当所述被...

14、等离子体刻蚀的终点监测方法

[简介]：本申请涉及一种等离子体发生器阴极寿命监测装置，包括：获得与流过等离子体发生器阴极的电流有关的信息的装置；根据流过等离子体发生器阴极的电流确定阴极的消耗速率的装置；以及，根据所述消耗速率计算阴极的剩余寿命的装...

15、等离子体发生器阴极寿命监测装置

[简介]：本申请涉及一种等离子体发生器阴极寿命监测方法和装置，包括：获得与流过等离子体发生器阴极的电流有关的信息；根据流过等离子体发生器阴极的电流确定阴极的消耗速率；以及，根据所述消耗速率计算阴极的剩余寿命。根据本套资料...

16、等离子体发生器阴极寿命监测方法和装置

[简介]：一种法拉第剂量和均匀度监测器可包括环绕目标晶片20的磁抑制环状法拉第杯80。窄孔可减少法拉第杯开口60内的放电。该环状法拉第杯可具有连续的截面以此消除由于中断而导致的放电。不同半径下的多个法拉第杯可独立测...

17、基于等离子体的离子注入的法拉第剂量和均匀度监测器

[简介]：一种等离子体内壁材料损伤状态的实时监测装置，包括：谐振复合元件、水冷屏蔽壳、导线及谐振频率测量仪；所述谐振复合元件是能够随着内壁材料性能状态的变化而产生谐振频率变化的元件，它包括片状压电晶体片、内壁材料薄层、电...

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