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《成膜,半导体类专题技术光盘》

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1、成膜方法、包含该成膜方法的半导体装置的制造方法、成膜装置及半导体装置
[简介]: 本发明提供一种成膜方法、包含该成膜方法的半导体装置的制造方法、成膜装置、及半导体装置。半导体装置包括场效应晶体管、及具有柱状形状的电容器,其中,该半导体装置还包括:第1电极,其与上述场效应晶体管的杂质扩散区域电连...

2、成膜方法、包含该成膜方法的半导体装置的制造方法、成膜装置及半导体装置
[简介]: 本发明的目的在于提供一种可成膜当利用激光划线法来进行图案形成时能够适当地被去除的钼层的成膜装置、成膜基板制造方法及成膜基板。本发明的成膜装置在成膜室11B内,从基板输送方向D的上游侧遍及下游侧产生惰性气体...

3、成膜装置、成膜基板制造方法及成膜基板
[简介]: 本发明提供一种成膜基板的制造方法、成膜基板及成膜装置,所述成膜基板实现了提高玻璃基板与钼层的粘附力。在含有预定量氧的第1气氛中,在玻璃基板2的表面成膜第1钼层3a,在含氧率低于第1气氛的第2气氛中,在第1钼层3a...

4、成膜基板的制造方法、成膜基板及成膜装置
[简介]: 本发明提供一种成膜基板、成膜基板的制造方法及成膜装置,其谋求降低膜厚的同时不需要蚀刻工序且谋求低成本化,并且具有凹凸结构的薄膜层成膜于被成膜基板表面。成膜基板1为具有凹凸结构的薄膜层3成膜于被成膜基板2...

5、成膜基板、成膜基板的制造方法及成膜装置
[简介]: 本发明提供一种成膜方法、成膜装置和成膜装置的使用方法,该成膜方法交替重复多次成膜处理和氧化吹扫处理,该成膜处理在处理容器内使用Si源气体和氧化剂在被处理体的表面形成SiO2膜,该氧化吹扫处理在将上述被处理体自上述...

6、成膜方法、成膜装置及成膜装置的使用方法
[简介]: 本发明提供一种晶种层的形成方法、硅膜的成膜方法以及成膜装置,所述晶种层的形成方法在基底上形成晶种层,所述晶种层成为薄膜的晶种,其具备下述工序:(1)将基底加热,在加热了的基底表面上供给氨基硅烷系气体,在基底表面上...

7、晶种层的形成方法、硅膜的成膜方法以及成膜装置
[简介]: <p>【課題】マスク材料と薄膜材料との線膨張係数の差に起因するマスクの変形の影響を安価な方法で抑制して薄膜パターンの位置精度の向上を図る。【解決手段】基板上に成膜される薄膜パターンと形状寸法の同じ複数の第1の開口パターン4を形成した第1のマスク2と、前記複数の第1の開口...

8、硅膜的成膜方法以及成膜装置
[简介]: 本发明提供一种硅膜的成膜方法以及成膜装置,所述成膜方法在基底上形成包含硅膜的膜,其具备:将该基底加热,在加热了的基底表面上供给氨基硅烷系气体,在基底表面上形成晶种层的工序;以及,将基底加热,在加热了的基底表面的...

9、硅膜的成膜方法以及成膜装置
[简介]: 本发明提供成膜装置、基板处理装置及成膜方法。成膜装置包括:旋转台;成膜区域,于其中在基板上依次层叠分子层或原子层而形成薄膜;等离子体处理部,在等离子体产生区域中利用等离子体对分子层或原子层进行改性处理,等离子体...

10、成膜装置、基板处理装置及成膜方法
[简介]: 在第1条件下,使阴极电极(11)以及阳极电极(12)间产生等离子体。接下来,在与第1条件不同的第2条件下,使等离子体产生。第2条件与第1条件相比,是使等离子体在阴极电极(11)与阳极电极(12)间向外周方向扩散的条件。由此,除了电...

11、成膜装置的清洁方法、成膜方法以及成膜装置
[简介]: 本发明涉及一种成膜装置,其包括收容治具、固定治具及紫外光固化部。所述收容治具为采用透明材质制作形成,所述收容治具内形成有至少一个容置槽,所述容置槽用于收容待成膜零件,所述容置槽的尺寸大于所述待成膜零件的尺寸。...

12、成膜装置及成膜方法
[简介]: 本发明提供一种成膜掩模的制造方法以及成膜掩模。该成膜掩模的制造方法进行以下步骤:形成使磁性金属部件与树脂制造的膜片密接了的掩模用部件的步骤,其中所述磁性金属部件在与基板上的多个薄膜图案以及多个基板侧对准标...

13、成膜掩模的制造方法以及成膜掩模
[简介]: 本发明涉及一种连续的热致相分离成膜装置及成膜工艺,属于连续的热致相分离法成膜装置及成膜工艺技术领域。包括1)、连续投料;2)、喷丝处理;3)、冷凝处理;4)、在线萃取;5)、在线拉伸及绕丝处理。本发明制备工艺简捷,制备周期短...

14、一种连续的热致相分离法成膜装置及成膜工艺
[简介]: 提供一种成膜方法以及成膜装置,能够抑制成膜中的被膜的氧化,能够使装置简化且低价,并且不耗费精力和时间就能够更换成膜对象的基材。成膜装置100使原料的粉末2与气体一并加速,将该粉末2保持为固相状态向基材1的...

15、成膜方法以及成膜装置
[简介]: <p>Sb原料導入工程と、第1のパージ工程と、Te原料導入工程と、第2のパージ工程と、Ge原料導入工程と、第3のパージ工程と、を含み、前記原料導入工程又はパージ工程の少なくとも1つの工程において、アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、ヒドラジン、モノメチルヒドラジン、ジメチルヒドラジン及びピリジンの1つ又は2...

16、成膜装置、成膜头和成膜方法
[简介]: 提供一种成膜装置,该成膜装置能够进行期望条件下的有机成膜材料和无机成膜材料的共蒸镀。该成膜装置具备:收纳被处理基板G的处理室;设置于处理室的外部的产生有机成膜材料的蒸气的蒸气产生部;有机成膜材料供给部22,...

17、成膜装置、成膜头和成膜方法
[简介]: 本发明提供成膜装置和成膜方法。一边使旋转台旋转,一边重复进行向晶圆供给处理气体而形成反应层的步骤和利用等离子体来对该反应层进行改性的步骤,从而形成薄膜。并且,在形成该薄膜之后,停止处理气体的供给,并使用加热灯...

18、成膜装置和成膜方法
[简介]: 本发明提供成膜装置和成膜方法。成膜装置在真空容器内利用旋转台使配置在该旋转台的一面侧的基板公转,多次重复依次供给相互不同的处理气体的循环来层叠反应产物的层而获得薄膜,其包括:第1处理气体供给部;第2处理气体供...

19、成膜装置和成膜方法
[简介]: 本发明提供成膜装置的运转方法和成膜装置。该方法用于运转成膜装置,该成膜装置用于多次重复依次向基板供给相互不同的处理气体的循环来层叠反应产物的层而获得薄膜,该成膜装置包括:真空容器;旋转台;第1处理气体供给部;第...

20、成膜装置的运转方法及成膜装置
[简介]: 本发明提供一种成膜装置及成膜装置用传送托盘,其能够实现驱动机构的简单化,并且降低粒子附着于基板的风险,抑制成膜基板的品质下降。所述成膜装置(100)具有传送装置(10,且该传送装置具备对基板(101)进行传送的多个传送...

21、成膜装置及成膜装置用传送托盘
[简介]: 在步骤1的升压步骤中,利用PCV54对原料容器60内供给运载气体,使原料容器60内上升至第一压力P<>1<>。在步骤2的降压步骤中,使排气装置35工作,从原料气体供给管71经由排气旁通管75将原料气体废弃,使原料...

22、成膜方法和成膜装置
[简介]: 一种流涎法制备全氟离子膜的成膜系统及其成膜工艺。提供了一种结构简单、使用方便,可有效避免全氟离子膜与钢带发生粘黏的流涎法制备全氟离子膜的成膜系统及其成膜工艺。本发明的技术方案是:连接在挤出机的流涎嘴的下方,所...

23、一种流涎法制备全氟离子膜的成膜系统及其成膜工艺
[简介]: <p>PROBLEMTOBESOLVED:Todepositahomogeneousthinfilmhavingexcellentfilmqualityoverthefilmthicknessdirectionwhenlaminatingareactionproductanddepositingathinfilmbyrelatively...

24、成膜装置和成膜方法
[简介]: 提供了一种成膜装置,包括辊对辊机构和加热单元。辊对辊机构被配置为传输成膜靶并包括张力释放单元,所述张力释放单元被配置为释放施加至所传输的成膜靶的张力。所述加热单元被配置为加热由辊对辊机构传输的成膜靶。

25、成膜装置和成膜方法
[简介]: 本发明提供一种用于在沉积成膜中固定成膜基底的压块、沉积成膜方法,属于沉积成膜领域,可解决压块与基底粘连的问题。本发明的压块包括在沉积成膜操作时位于所述基底上方的压制部分,压制部分包括用于压制所述基底的压制面...

26、用于在沉积成膜中固定成膜基底的压块、沉积成膜方法
[简介]: 本发明涉及碳化硅的成膜装置及成膜方法。碳化硅的成膜装置具有:成膜室,被供给反应气体而进行成膜处理;温度测定部,测定成膜室内部的温度;多个加热器,配置在成膜室的内部;输出控制部,独立地控制多个加热器的各输出;以及基...

27、碳化硅的成膜装置及成膜方法
[简介]: 为了提供一种不论保护对象部件为何部件均能够将附着膜的剥离抑制在极低水平的真空成膜装置用防附着板,而以减小与保护对象部件的接触面积、并且使接触面以外隔热的方式配置防附着板。

28、真空成膜装置及真空成膜方法
[简介]: 本发明提供能够在多个基材的表面连续形成期望膜厚的金属被膜的金属被膜的成膜装置及其成膜方法。成膜装置1A至少具备阳极11、阴极12、在上述阳极与成为阴极的基材之间配置于阳极12的表面的固体电解质膜13、成膜装...

29、金属被膜的成膜装置和成膜方法
[简介]: 本发明是成膜装置、以及成膜装置用基板搬运机构。提供能够缩小转送室的高度以及处理腔室的高度、且能够缩小闸阀的开口的上下方向的大小的长行程搬运机构。从下方开始第二层的直动轴承的上下两个滚动体保持部背对背地固定安...

30、成膜装置、以及成膜装置用基板搬运机构
[简介]: 本发明提供一种成膜装置及成膜方法。在从利用旋转台进行公转的晶圆看时的第1处理区域和第2处理区域之间设置分离区域,并在从利用旋转台进行公转的晶圆看时的第2处理区域和第1处理区域之间配置用于利用等离子体产生部进行...

31、成膜装置及成膜方法
[简介]: <p>【課題】新規な成膜装置を提供する。また、新規な成膜方法を提供する。また、新規な成膜材料の除去方法を提供する。【解決手段】成膜材料が堆積する位置にエネルギーを照射する照射源を有する構成に想到した。また、成膜材料が堆積する位置にエネルギーを照射しながら成膜するステップに想...

32、成膜用油墨、成膜方法、发光元件的制造方法、发光元件、发光装置以及电子设备
[简介]: 本发明提供保存稳定性优异、且能够形成具有优异的膜质的膜的成膜用油墨、成膜方法以及发光元件的制造方法、以及通过所述发光元件的制造方法而制造的发光元件、和具备所述发光元件的发光装置以及电子设备。本发明的成膜用油...

33、成膜用油墨、成膜方法、发光元件的制造方法、发光元件、发光装置以及电子设备
[简介]: 成膜方法是在成膜于被处理基板的包含无机物的无机层3上形成包含含氟树脂的有机层的成膜方法,在形成无机层时,进行使用了水蒸汽作为反应性气体的反应性溅射以在被处理基板上形成无机层,接下来,在无机层上形成有机层。成膜...

34、成膜方法和成膜装置
[简介]: 本发明提供成膜装置及成膜方法。在基板上成膜气相生长膜的成膜装置1具备反应室2、排气机构3以及将它们连接的配管4。在配管4的途中配设捕集部5’,该捕集部5’上连接有向内部供给非活性气体15的非活性气体供...

35、成膜装置及成膜方法
[简介]: 本发明涉及成膜装置以及成膜方法,用于抑制原料气体在喷淋板上的反应。成膜装置(100)使用喷淋板(124)朝向腔室(103)内的基板(101)供给多种气体。喷淋板(124)具有按照沿着基板(101)侧的第1面的方式在其内部延伸,与供给多种...

36、成膜装置以及成膜方法
[简介]: 本发明公开了一种质子交换膜的成膜方法及成膜装置,属于质子交换膜制备技术,包括以下步骤:在一定温度下,将聚合物原料搅拌溶解于适量溶剂中,过滤后将滤液倒入成膜装置的操作台上进行干燥成膜。本发明中质子交换膜的生产方...

37、一种质子交换膜的成膜方法及成膜装置
[简介]: 本发明提供一种成膜装置及成膜方法。光CVD装置成膜装置1通过对原料气体照射光而生成晶种,并通过使晶种在基板2上堆积而使膜成长,并且在光源13和保持基板2的样品台基板保持部14之间配置遮光板遮光构件2...

38、成膜装置及成膜方法
[简介]: 本发明涉及一种成膜装置和成膜方法。本发明的成膜装置具有两台溅射蒸发源,该溅射蒸发源包括:非平衡磁场形成单元,该非平衡磁场形成单元由配备在内侧的内极磁铁和配备在该内极磁铁的外侧且磁力线密度比内极磁铁大的外极磁...

39、成膜装置和成膜方法
[简介]: <p>【課題】酸素含有活性種を用いることなくシリコン酸炭窒化物膜を成膜することを可能とし、かつ、カーボンおよび/または窒素を、高濃度に含有させることが可能なシリコン酸炭窒化物膜の成膜方法を提供すること。【解決手段】被処理体の被処理面上に、酸素を含んだ基を有したシリコンプリカーサを含...

40、真空成膜方法及真空成膜装置
[简介]: 提供一种紧凑且使用方便、初期成本和运行成本均低廉的真空成膜装置及真空成膜方法。在成膜室(2)内设置工件支架(10)和磁控管电极(15)。在磁控管电极(15)设置第一靶材料(16),且与之重叠地设置第二靶材料(17)。第二靶材料(17...

41、真空成膜方法及真空成膜装置
[简介]: 本发明涉及一种电机绝缘漆的成膜促进剂溶液及电机烘焙前绝缘漆的成膜方法。成膜促进剂溶液包括促进剂和溶剂;所述促进剂为亲核的叔胺类,或亲电型的路易斯酸,或路易斯酸络合物,或金属有机化合物;所述溶剂为有机溶剂。电机...

42、一种电机绝缘漆的成膜促进剂溶液及电机烘焙前绝缘漆的成膜方法
[简介]: 本发明提供一种能够高效地进行防污膜的成膜的成膜装置,该防污膜不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。其是基板支架12可旋转地配设在真空容器10内的成膜装置1,所述基板支架12具有用于保持2个以上基板的基体保持...

43、成膜方法和成膜装置
[简介]: 本发明提供一种成膜装置和成膜方法。该成膜装置在旋转台的旋转方向上将两个等离子体产生部互相分开设置,并且在该等离子体产生部与晶圆之间分别配置法拉第屏蔽。而且,在各个法拉第屏蔽上设有沿与各个等离子体产生部中的天...

44、成膜装置和成膜方法
[简介]: 本发明提供可有效地进行防污膜的成膜的成膜装置,该防污膜的耐磨耗性能不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。本发明的成膜装置1为将具有用于保持两个以上基板14的基体保持面的基板支架12可旋转地配设在真...

45、成膜方法和成膜装置
[简介]: 本发明提供一种非晶硅膜的成膜方法及成膜装置。该非晶硅膜的成膜方法包括以下工序:加热基底,向加热了的基底供给氨基硅烷类气体,在基底表面上形成晶种层;加热基底,向加热了的基底表面的晶种层供给不含氨基的硅烷类气体,...

46、非晶硅膜的成膜方法及成膜装置
[简介]: 提供一种成膜装置和使用该成膜装置的成膜方法,它们能够形成具有良好尺寸精度以及具有基板与掩模之间在将基板压向掩模时于平面方向上的减小的不对准的像素图案。该成膜装置包括使基板和掩模相互对准的对准机构以及用设置...

47、成膜装置及使用该成膜装置的成膜方法
[简介]: <p>【課題】両面に金属膜が成膜された直後における長尺体を巻き取った際、金属膜同士が貼り付いてしまうブロッキング現象が起こり難い両面成膜方法と両面成膜装置を提供する。【解決手段】ロールツーロールで搬送される長尺体F両面に減圧下で金属膜を成膜する両面成膜方...

48、成膜方法和成膜装置
[简介]: 本发明涉及成膜方法和成膜装置。该成膜方法是向收纳被处理体W且可抽真空的处理容器内供给含硼气体、氮化气体、硅烷系气体和烃气体,在被处理体的表面上形成含有硼、氮、硅和碳的薄膜的成膜方法,具有:第1工序,进行1次以上交替...

49、成膜方法和成膜装置
[简介]: 本发明提供成膜方法和成膜装置。成膜方法包括以下步骤:将基板输入到真空容器内,将基板载置在能旋转地设在真空容器内的旋转台上;使旋转台旋转;吸附步骤,自第1反应气体供给部向基板供给第1反应气体,使第1反应气体吸附于基...

50、成膜方法和成膜装置
[简介]: 本发明提供成膜装置和成膜方法。该成膜装置包括:真空容器,按顺序向其内部多次供给第一处理气体和第二处理气体;旋转台,其具有包括基板载置区域在内的一个表面,使基板载置区域在真空容器内旋转;第一处理气体供给部,向第一...

51、成膜装置和成膜方法
52、成膜装置和成膜方法
53、成膜方法、成膜装置
54、成膜方法及成膜装置
55、成膜装置、成膜方法、有机发光元件的制造方法和有机发光元件
56、成膜方法及成膜装置
57、成膜方法及成膜装置
58、成膜方法和成膜装置
59、催化化学气相成膜装置、使用该装置的成膜方法和催化剂体的表面处理方法
60、成膜装置及成膜基板制造方法
61、成膜装置及成膜方法
62、成膜方法及成膜装置
63、氮化硅膜的成膜方法、有机电子器件的制造方法和氮化硅膜的成膜装置
64、成膜装置和成膜方法
65、成膜装置和成膜方法
66、在碳膜上形成氧化物膜的成膜方法和成膜装置
67、氮化硅膜的成膜方法和成膜装置
68、成膜装置和成膜方法
69、成膜装置和成膜方法
70、成膜装置和成膜方法
71、成膜装置及成膜方法
72、成膜方法、成膜装置以及半导体装置的制造方法
73、成膜方法、成膜装置以及半导体装置的制造方法
74、成膜装置和成膜方法
75、成膜装置和成膜方法
76、电介质成膜装置和电介质成膜方法
77、成膜方法及成膜装置
78、成膜装置和成膜方法
79、成膜方法和成膜装置
80、成膜方法和成膜装置
81、成膜方法和成膜装置
82、氧化膜成膜方法及氧化膜成膜装置
83、等离子体成膜装置以及等离子体成膜方法
84、成膜装置和成膜方法
85、成膜用油墨、成膜方法、液滴喷出装置、发光元件的制造方法、发光元件、发光装置及电子设备
86、成膜方法和成膜装置
87、成膜装置以及成膜方法
88、成膜颜料和包含该成膜颜料的涂覆体系
89、成膜颜料和包含该成膜颜料的涂覆体系
90、成膜装置以及成膜方法
91、成膜装置、成膜装置的维护方法
92、成膜方法及成膜装置
93、成膜速度快的电弧式蒸发源、使用该电弧式蒸发源的皮膜的制造方法及成膜装置
94、成膜方法和成膜装置
95、成膜方法和成膜装置
96、非晶体硅膜的成膜方法和成膜装置
97、非晶体硅膜的成膜方法和成膜装置
98、非晶体硅膜的成膜方法和成膜装置
99、成膜装置和成膜方法
100、成膜装置和成膜方法
101、成膜方法和成膜装置
102、成膜方法和成膜装置
103、成膜装置及成膜方法
104、成膜装置及成膜方法
105、成膜装置及成膜方法
106、成膜装置以及成膜方法
107、有机薄膜的成膜装置以及有机材料成膜方法
108、成膜方法和成膜装置
109、成膜基板夹具及其成膜装置
110、成膜装置、成膜方法及存储介质
111、有机EL器件制造装置及制造方法和成膜装置及成膜方法
112、有机EL器件制造装置及制造方法和成膜装置及成膜方法
113、氧化物超导体用取向膜基底层及其成膜方法以及其成膜装置
114、金属氧化膜的成膜方法、氧化锰膜的成膜方法及计算机可读取存储介质
115、成膜装置和成膜方法
116、有机EL器件制造装置及有机EL器件制造方法以及成膜装置及成膜方法
117、磁传感器层叠体、成膜方法、成膜控制程序以及记录介质
118、成膜装置和成膜方法
119、成膜装置、成膜系统和成膜方法
120、成膜装置、成膜系统和成膜方法
121、成膜装置、成膜系统及成膜方法
122、成膜装置和成膜方法
123、成膜装置以及成膜方法
124、基座、成膜装置及成膜方法
125、真空成膜装置以及真空成膜装置的挡板位置检测方法
126、成膜装置以及成膜方法
127、硅氧化膜用成膜原料及使用该原料的硅氧化膜的成膜方法
128、硅氧化膜用成膜原料及使用该原料的硅氧化膜的成膜方法
129、成膜方法以及成膜装置
130、成膜方法以及等离子体成膜装置
131、成膜装置和成膜方法
132、成膜装置、成膜方法和有机EL元件
133、成膜装置和成膜方法
134、成膜装置和成膜方法
135、成膜方法和等离子体成膜装置
136、成膜方法和等离子体成膜装置
137、钝化膜形成用成膜装置和成膜方法、以及太阳能电池元件的制造方法
138、成膜装置和使用该成膜装置的基板的制造方法
139、成膜方法与成膜装置
140、有机EL器件制造装置、成膜装置及其成膜方法、液晶显示基板制造、定位装置及定位方法
141、成膜方法、成膜装置和存储介质
142、成膜装置和成膜方法
143、成膜装置、成膜方法、半导体制造装置及其所用的基座
144、成膜装置、成膜方法、半导体制造装置及其所用的基座
145、基板位置检测装置、基板位置检测方法、成膜装置、成膜方法
146、成膜装置和成膜装置的清洁方法
147、电极电路、成膜装置、电极单元以及成膜方法
148、微滤成膜处理设备及其微滤成膜处理方法
149、成膜装置、成膜方法和半导体装置
150、等离子体处理装置、磁电阻元件的制造装置、磁性薄膜的成膜方法以及成膜控制程序
151、防反射膜的成膜方法、防反射膜和成膜装置
152、防反射膜的成膜方法、防反射膜和成膜装置
153、成膜方法及成膜装置
154、成膜装置及成膜方法
155、成膜装置及成膜方法
156、成膜方法、成膜装置、压电膜、压电器件和液体排出装置
157、成膜装置、基板处理装置及成膜方法
158、成膜装置、成膜方法
159、成膜装置、基板处理装置及成膜方法
160、成膜装置、基板处理装置及成膜方法
161、成膜装置、基板处理装置、成膜方法
162、成膜装置、基板处理装置及成膜方法
163、成膜装置、基板处理装置、成膜方法
164、成膜方法和成膜装置
165、金属氧化膜的成膜方法、金属氧化膜及金属氧化膜的成膜装置
166、成膜装置和成膜方法
167、活化气体注入装置、成膜装置和成膜方法
168、活化气体注入装置、成膜装置和成膜方法
169、成膜装置和成膜方法
170、成膜装置及成膜方法、基板处理装置
171、成膜装置、成膜装置系统、成膜方法、以及电子设备或有机电致发光元件的制造方法
172、有机EL设备制造装置和制造方法及成膜装置和成膜方法
173、有机EL器件制造装置及其制造方法以及成膜装置及成膜方法
174、有机EL设备制造装置和其制造方法以及成膜装置和成膜方法
175、成膜方法及成膜装置
176、成膜方法及成膜装置
177、成膜设备以及成膜方法
178、聚合膜的成膜方法和成膜装置
179、金属氧化膜的成膜方法、金属氧化膜及金属氧化膜的成膜装置
180、成膜方法和成膜装置
181、成膜装置及成膜方法
182、成膜成形体,成膜成形方法及成膜成形装置
183、成膜方法及成膜装置、计算机可读存储介质
184、成膜方法及成膜装置、计算机可读存储介质
185、溅射成膜方法以及溅射成膜装置
186、成膜方法及成膜装置
187、基板保持器、使用基板保持器的成膜方法、硬盘制造方法、成膜设备及程序
188、透明导电膜的成膜方法和成膜装置
189、成膜装置及成膜方法
190、钛膜的成膜方法和钛膜的成膜装置
191、成膜设备以及成膜方法
192、成膜设备以及成膜方法
193、成膜装置及成膜方法
194、成膜方法、成膜装置、存储介质以及半导体装置
195、金属氧化膜的成膜方法及金属氧化膜的成膜装置
196、氧化锌膜ZnO或氧化镁锌膜ZnMgO的成膜方法及氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜装置
197、成膜装置和成膜方法
198、成膜装置、成膜方法、存储介质及气体供给装置
199、成膜装置和成膜方法
200、成膜装置和成膜方法
201、成膜装置和成膜方法
202、成膜装置和成膜方法
203、成膜装置的排气系统结构、成膜装置和排出气体的处理方法
204、气化装置、成膜装置、成膜方法、计算机程序以及存储介质
205、成膜方法、成膜用掩模和成膜装置
206、成膜方法和成膜装置
207、碳纳米管成膜方法、成膜装置及碳纳米管薄膜
208、碳纳米管成膜方法、成膜装置及碳纳米管薄膜
209、成膜方法和成膜装置
210、成膜方法和成膜装置
211、光学薄膜的成膜方法、光学基板以及光学薄膜的成膜装置
212、光学薄膜的成膜方法、光学基板以及光学薄膜的成膜装置
213、成膜装置及利用成膜装置的成膜系统
214、伪基板和使用该伪基板的成膜装置的启动方法、成膜条件的维持或变更方法及停止方法
215、成膜方法、成膜装置和存储介质
216、成膜方法、成膜装置和存储介质
217、成膜装置、成膜方法和存储介质
218、成膜装置和成膜方法
219、成膜装置及成膜方法
220、成膜方法和成膜装置
221、使用羰基原料的金属膜的成膜方法、多层配线构造的形成方法、半导体装置的制造方法、成膜装置
222、一种提高成膜均匀性的方法
223、一种提高成膜均匀性的方法
224、成膜方法
225、离子注入装置及成膜装置
226、基板保持台和使用其的成膜方法、成膜装置
227、成膜方法
228、成膜方法
229、成膜方法
230、基板位置检测装置、基板处理装置和成膜装置
231、基板位置检测装置、基板处理装置和成膜装置
232、一种水性锌铝浆高温成膜涂料
233、成膜装置
234、以硅酸钾为成膜物质的无机多功能涂料及其制备方法
235、一种成膜液、制备方法及其应用
236、一种成膜助剂组合物
237、超高分子量聚乙烯薄膜的熔融挤出、拉伸成膜生产工艺及其生产装置
238、成膜装置
239、成膜装置
240、基板传送托盘及成膜装置
241、形成膜层的装置
242、含有改性纳米粒子的成膜组合物以及用于成膜组合物中的改性纳米粒子
243、一种成膜基板液相清洗用石英夹具
244、Au-Sn-Bi合金粉末浆料、Au-Sn-Bi合金薄膜及其成膜方法
245、改性光触媒纳米级功能层在汽车车体及通风装置表面的成膜制剂
246、一种功率MOS器件的金属成膜方法
247、一种功率MOS器件的金属成膜方法
248、成膜装置及真空腔室的开闭机构
249、纳米材料的发光气敏传感器及纳米材料的成膜工艺
250、一种*碱托特罗定成膜水凝胶制剂及其后载药制备方法
251、一种气相沉积成膜设备的清洗方法
252、一种气相沉积成膜设备的清洗方法
253、一种高成膜率合成NaA沸石膜的方法
254、非晶碳膜、半导体装置、成膜方法、成膜装置和存储介质
255、非晶碳膜、半导体装置、成膜方法、成膜装置和存储介质
256、成膜装置和成膜方法
257、成膜装置以及成膜方法
258、成膜装置
259、一种成膜助剂
260、一种壳聚糖生物成膜胶及其制备方法
261、一种快速成膜的吹膜机
262、成膜掩模的制造方法
263、成膜掩模的制造方法
264、卷绕式真空成膜方法及卷绕式真空成膜装置
265、成膜缓蚀剂新技术
266、具有耐抛光性和低光泽的能固化的成膜组合物和改进基材耐抛光性的方法
267、成膜掩模的制造方法
268、深沟槽中感应材料的成膜方法
269、适用于煤层气井的成膜钻井液及其制备方法
270、一种薄膜成膜机辊轮冷却装置
271、一种薄膜成膜机辊轮冷却装置
272、一种薄膜成膜机自动上料装置
273、一种连续的热致相分离法成膜装置
274、可机器喷涂的快速破乳凝固成膜蠕变型的防水涂料及其制备方法
275、一种气体辅助成膜方法
276、一种具有成膜和稳定作用的双功能锂离子电池酰胺类添加剂及含该添加剂的电解液
277、成膜装置
278、一种日用电子产品防水成膜装置
279、一种日用电子产品防水成膜装置
280、一种日用电子产品防水成膜装置
281、显示出耐抛光性和低光泽度的能固化成膜组合物
282、栝楼籽油的提取方法及在化妆品成膜中的用途
283、用于形成膜的方法
284、真石漆成膜性和耐水白性测试用喷淋装置
285、无纺滤布温阶式轧光成膜方法
286、一种采用导电高分子涂料在PET基材表面的成膜工艺
287、一种采用导电高分子涂料在PET基材表面的成膜工艺
288、可在正极成膜的锂离子电池电解液及其制备方法
289、激光熔覆用镍基二硫化钼耐磨复合膜层的电镀成膜液及其应用
290、等离子体成膜装置和等离子体成膜方法
291、耐海水型抗溶性水成膜泡沫灭火剂及其制备方法
292、深沟槽中感应材料的成膜方法
293、一种形成膜层的方法和基板
294、成膜装置
295、成膜装置
296、种子包衣成膜干燥机
297、一种涂料用新型糯米浆成膜助剂
298、甲醇高效抗溶性水成膜泡沫灭火剂及其制备方法
299、一种具有光催化性能的自洁玻璃烧结成膜的加工方法
300、金属阻挡层的成膜方法
301、一种用集成膜技术处理*废水的装置
302、一种用集成膜技术处理*废水的装置
303、一种用集成膜技术处理*废水的方法
304、一种用集成膜技术处理*废水的装置
305、一种苦草醇提液的集成膜浓缩回收设备
306、一种成膜后透析法制备的聚合物渗透汽化膜及其方法
307、用于递送活性成分至皮肤的包含成膜聚合物的局部组合物
308、用于递送活性成分至皮肤的包含成膜聚合物的局部组合物
309、用于递送活性成分至皮肤的包含成膜聚合物的局部组合物
310、含倍半萜的成膜树脂及其正性248nm光刻胶
311、成膜方法
312、泡泡成膜装置
313、一种铝合金表面化学转化成膜液的配制方法
314、一种铝合金表面化学转化成膜液
315、一种铝合金表面化学转化成膜处理工艺
316、成膜装置
317、成膜装置
318、成膜装置用基板传送托盘及外部开闭驱动装置
319、真空成膜装置以及真空成膜方法
320、CVD成膜方法和CVD成膜装置
321、成膜装置
322、成膜方法和成膜装置
323、用包含疏水性成膜聚合物、至少一种挥发性溶剂和至少一种颜料的组合物在角蛋白纤维上形成有色图案的方法
324、一种水性半透明成膜乳液及其制备方法
325、一种水性半透明成膜乳液及其制备方法
326、成膜装置及成膜方法
327、成膜方法、清洁方法和成膜装置
328、应用于环保型防霉镜背涂料成膜树脂生产控制的装置
329、应用于环保型防霉镜背涂料成膜树脂生产控制的装置及其方法
330、一种能监测成膜过程的平板式刮膜机
331、成膜装置
332、成膜装置
333、聚合物颗粒的水分散体,包含该水分散体的成膜组合物及其用途
334、一种金属线成膜工艺方法
335、一种水成膜温控自动灭火装置
336、Si基薄膜电池中PECVD成膜镂空的检测装置
337、Si基薄膜电池中PECVD成膜镂空的检测装置及检测方法
338、一种D-酸脱色液的集成膜预浓缩设备
339、微粒分级测定装置、粒子浓度分布均匀的试样制作装置、以及纳米粒子膜成膜装置
340、微粒分级测定装置、粒子浓度分布均匀的试样制作装置、以及纳米粒子膜成膜装置
341、V法铸造浸泡成膜法
342、一种以水性氟硅丙烯酸分散体为成膜物的彩砂仿石涂料
343、成膜装置和成膜方法
344、成膜装置及成膜方法
345、卷取成膜装置
346、一种钢铁表面电化学氧化膜成膜液、使用方法及其形成的膜层
347、成膜装置、成膜方法、计算机程序和存储介质
348、成膜装置、成膜方法、计算机程序和存储介质
351、成膜设备和成膜方法
352、成膜设备和成膜方法
353、成膜装置
354、流延法制备全氟离子膜的成膜系统
355、发光元件的制造方法及成膜装置
356、圆筒式成膜装置
357、提高封装成膜均匀性的方法及装置
358、提高封装成膜均匀性的方法及装置
359、加热并连接沥青或合成膜片材的装置及其沥青或合成膜
360、成膜方法和成膜装置
361、成膜方法、成膜装置及存储介质以及半导体装置
362、成膜用模具、使用了模具的成膜方法以及成膜控制系统
363、成型体的成膜方法、被成膜成型体的制造方法及被成膜成型体制造用模具
364、成膜方法
365、相控成膜苯丙型涂料乳液及制备方法
366、相控成膜苯丙型涂料乳液及制备方法
367、聚合胶液成膜分布装置
368、聚合胶液成膜分布装置
369、成膜装置和成膜方法
370、捕集机构、排气系统和成膜装置
371、一种抗粘、耐水、平滑、附着力好同时具有低温成膜性的丙烯酸乳液
372、用于钢板表面快速成膜的三价铬钝化剂
373、用于钢板表面快速成膜具有高耐蚀性的三价铬钝化剂
374、用于钢板表面快速成膜具有高耐蚀性的三价铬钝化剂
375、成膜方法、成膜装置和存储介质
376、一种成膜树脂及含有该成膜树脂的热固化树脂组合物
377、一种托特罗定成膜水凝胶制剂及其制备方法
378、油扩散泵以及真空成膜装置
379、成膜装置的排气系统结构、成膜装置和排出气体的处理方法
380、溅射装置和溅射成膜方法
381、一种铝合金淡*三价铬转化膜的制备方法及其成膜液
382、一种铝合金淡*三价铬转化膜的制备方法及其成膜液
383、一种铝合金有机胺酚复合封闭膜的制备方法及其成膜液
384、一种煤化工废水的集成膜深度处理方法
385、一种含胶类纤维成膜方法及其装置
386、一种含胶类纤维成膜装置
387、成膜装置内的金属膜的干洗方法
388、成膜装置
389、形成膜的组合物及离子注入方法
390、形成膜的组合物及离子注入方法
391、超导成膜用基材和超导线以及超导线的制造方法
392、真石漆专用成膜助剂
393、超亲水自洁涂料配方及其成膜产品
394、成膜装置
395、一种纳米成膜促进剂及其应用
396、真空成膜装置
397、成膜设备、成膜方法和发光元件的制造方法
398、成膜设备、成膜方法和发光元件的制造方法
399、真空成膜装置
400、成膜方法、等离子体成膜装置和存储介质
401、成膜装置
402、成膜装置
403、成膜装置
404、掩模成膜方法及掩模成膜设备
405、半导体发光元件及电极成膜方法
406、半导体发光元件及电极成膜方法
407、种膜的成膜方法、等离子体成膜装置和存储介质
408、一种基片强适应性纳米材料均匀成膜方法及其装置
409、聚合物乳液最低成膜温度仪
410、成膜方法
411、薄膜的成膜装置
412、成膜方法
413、成膜方法
414、成膜方法
415、沟槽中的成膜工艺方法
416、新型高成膜性玻璃纤维复合毡浸润剂
417、成膜装置
418、一种松香改性成膜金属表面硅烷化防护处理剂及其制备方法
419、包含基于疏水性成膜聚合物及挥发性溶剂的组合物的涂抹装置以及使用其护理角蛋白纤维的方法
420、一种新型薄膜混合集成电路成膜基片
421、一种用于厚膜混合集成电路的成膜工艺
422、一种用于厚膜混合集成电路的成膜工艺
423、高成膜性羟乙基高性能变性淀粉
424、一种高成膜性羟乙基高性能变性淀粉
425、一种高成膜性羟乙基高性能变性淀粉及其制备方法
426、一种奶牛用稳定性强的成膜型护乳液及其制备工艺
427、贵金属膜的连续成膜方法和电子零件的连续制造方法
428、高成膜性阳离子接枝高性能淀粉
429、一种高成膜性阳离子接枝高性能淀粉及其制备方法
430、一种高成膜性阳离子接枝高性能淀粉及其制备方法
431、一种高成膜性阳离子接枝高性能淀粉
432、成膜装置和附带膜的玻璃膜的制造方法
433、一种用于调控炭膜气体分离性能的磁场干预成膜方法
434、用于形成膜的方法
435、一种有网络接口的程控陶瓷成膜与回流焊的电炉
436、钨膜的成膜方法
437、多孔膜成膜装置
438、多孔膜成膜装置
439、种子加工设备成膜仓
440、一种应用于透明材质的分层氮化硅SiNxOy成膜方法
441、包含成膜树脂的均匀沉积和低擦除性乳液
442、图案形成膜的刻蚀条件的测评
443、熔融合金的成膜装置
444、成膜方法以及成膜装置
445、成膜方法以及成膜装置
446、一种铝合金化学成膜工艺
447、钻井用挤注成膜护壁工具
448、成膜装置及粒子捕获板
449、成膜装置
450、硅氧化物膜的成膜方法
451、成膜装置及其运用方法
452、成膜装置及其运用方法
453、晶种层的形成方法以及含硅薄膜的成膜方法
454、钢铁常温发黑液复合成膜促进剂及钢铁常温发黑液及钢铁常温发黑液的制备方法
455、一种铝合金深绿色三价铬转化膜的制备方法及其成膜液
456、一种铝合金黄绿色三价铬转化膜的制备方法及其成膜液
457、一种不含全氟辛基类的非极性水成膜泡沫灭火剂
458、成膜助剂、含有其的水性树脂组合物及钢板表面处理剂
459、成膜方法和成膜装置
460、成膜方法和成膜装置
461、光刻胶成膜树脂及其制备方法
462、一种钢铁表面无磷无铬钝化成膜液及其使用方法
463、薄膜的形成方法和成膜装置
464、物理气相沉积成膜设备工艺腔套件
465、成膜装置和基板处理装置
466、水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材及成膜方法以及水蒸气阻挡膜
467、颗粒状蒸镀材及蒸镀膜的成膜方法以及蒸镀膜
468、颗粒状蒸镀材及蒸镀膜的成膜方法以及蒸镀膜
469、沉积成膜装置中所使用的晶圆固定装置
470、成膜装置和基板处理装置
471、片状等离子体发生装置及使用它的成膜方法和成膜装置
472、提高铝硅铜成膜质量的方法
473、基板处理装置和成膜装置
474、成膜方法
475、一种采用径向成膜主燃级的预混预蒸发燃烧室
476、一种采用径向成膜主燃级的预混预蒸发燃烧室
477、测量装置和成膜装置
478、一种炼油和化工装置的管道在线成膜的防腐装置
479、一种炼油和化工装置的管道在线成膜的防腐方法及装置
480、一种壳聚糖抗菌成膜喷剂及其制备方法
481、一种轧辊表面激光熔覆成膜的方法
482、基板处理装置和成膜装置
483、蒸发源及成膜装置
484、蒸发源及成膜装置
485、成膜装置、基板处理装置及等离子体产生装置
486、成膜方法及存储介质
487、真空成膜装置以及真空成膜方法
488、薄膜成膜方法、薄膜成膜装置和薄膜成膜过程的监视方法
489、薄膜成膜方法、薄膜成膜装置和薄膜成膜过程的监视方法
490、成膜装置
491、膜破裂检测装置和成膜装置
492、膜破裂检测装置和成膜装置
493、成膜用材料及成膜用材料的推定方法
494、成膜装置及成膜方法
495、一种高硅氧玻璃纤维连续纱线表面成膜烘干装置
496、双面真空成膜方法及利用该方法获得的层积体
497、双面真空成膜方法及利用该方法获得的层积体
498、双面真空成膜方法及利用该方法获得的层积体
499、一种促进锂离子电池石墨负极成膜的离子液体添加剂
501、成膜装置及基板处理装置
502、成膜装置及基板处理装置
503、含有至少一种用环氧丙烷改性的非离子型淀粉和至少一种其它成膜和或加固聚合物的角蛋白纤维用试剂用于改进氧化染发的颜色保持性的用途
504、提高物理溅射成膜质量的方法
505、成膜装置
506、成膜装置
507、真空成膜装置
508、一种洗衣纸专用成膜机
509、一种洗衣纸专用成膜机
510、成膜装置
511、采用高频加热、油化成膜的瞬时裂解反应装置
512、四连杆瞬时成膜装置
513、自动补偿悬浮刮板成膜装置
514、弹性丝网成膜装置
515、采用高频加热、油化成膜的瞬时裂解反应装置
516、自动补偿悬浮刮板成膜装置
517、自动补偿悬浮刮板成膜装置
518、四连杆瞬时成膜装置
519、弹性丝网成膜装置
520、成膜装置及成膜方法
521、成膜组合物及其在治疗疱疹中的应用
522、成膜方法和成膜装置
523、成膜装置
524、膜厚测量装置和成膜装置
525、膜厚测量装置和成膜装置
526、阳极氧化装置、连续阳极氧化装置以及成膜方法
527、一种铝衬垫成膜工艺方法
528、一种具有成膜护理作用的奶牛乳头消*剂及其制备方法
529、成膜装置
530、成膜用涂布液及其膜以及成膜方法
531、一种用于泡泡机的成膜机构
532、成膜装置、薄膜的制造装置及成膜方法
533、成膜装置、薄膜的制造装置及成膜方法
534、铁路轮轨专用成膜膏喷涂车
535、形成膜层的方法
536、真空成膜方法和由该方法得到的层积体
537、真空成膜方法及通过该方法得到的层叠体
538、微波等离子体生成装置和采用该装置的磁控溅射成膜装置
539、速度、角度可调的浸渍提拉成膜装置
540、一种用于金属表面防腐的复合纳米硅烷膜及其成膜方法
541、一种用于金属表面防腐的复合纳米硅烷膜及其成膜方法
542、一种应用于降膜蒸发器的成膜装置
543、成膜装置
544、CTP版用免处理热敏型成膜树脂及其制备方法
545、荧光胶成膜LED封装工艺及LED封装
546、一种用集成膜处理含无机铵盐废水的方法及装置
547、一种用集成膜处理含无机铵盐废水的装置
548、成膜装置和发光装置
549、成膜装置和发光装置
550、硅氧化物膜和硅氮化物膜的层叠方法、成膜装置
551、防止钢板黑化的成膜组合物以及含有由组合物形成的膜的钢板
552、防止钢板黑化的成膜组合物以及含有由组合物形成的膜的钢板
553、卷绕成膜装置
554、含有防晒剂的成膜组合物及其对疤痕进行处理的用途
555、成膜方法及溅射装置
556、成膜方法及溅射装置
557、成膜方法及成膜装置
558、一种铝合金表面三价铬与磷钼钨酸杂化转化膜的制备方法及其成膜液
559、一种铝合金三价铬与三价铈复合转化膜的制备方法及其成膜液
560、一种铝合金高性能三价铬杂化转化膜的制备方法及其成膜液
561、成膜装置、成膜方法和记录介质
562、蒸镀用舟皿和使用该蒸镀用舟皿的成膜方法
563、成膜装置和成膜方法
564、成膜装置和成膜方法
565、成膜装置和成膜方法
566、向上成膜磁控溅射装置
567、成膜装置和成膜方法
568、基板处理方法、成膜方法、成膜装置和计算机程序
569、成膜装置
570、一种锂离子二次电池石墨负极材料碳包覆和表面预成膜共改性制备方法
571、一种罐式高剪切成膜胺乳化装置
572、一种罐式高剪切成膜胺乳化装置
573、成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法
574、成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法
575、成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法
576、成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法
577、成膜装置及成膜方法
578、成膜装置和成膜方法
579、半导体处理用成膜方法、成膜装置和存储介质
580、半导体处理用成膜方法、成膜装置和存储介质
581、一种γ-聚谷氨酸与火绵胶成膜吸附水中铜离子的方法
582、成膜装置
583、真空转动成膜降压蒸发系统
584、真空转动成膜降压蒸发系统
585、成膜装置
586、非凝固剂法丁腈乳胶在棉胆上成膜工艺
587、成膜装置、成膜方法以及有机电发光元件的制造方法
588、成膜装置、成膜方法以及有机电发光元件的制造方法
589、成膜装置的基板安装方法以及成膜方法
590、成膜装置、成膜方法以及有机电发光元件的制造方法
591、成膜装置的掩模对位机构以及成膜装置
592、磁控溅射装置、磁控溅射装置的控制方法和成膜方法
593、用于碳膜的成膜原液及使用其制备碳中空纤维膜的方法
594、被成膜基板、有机EL显示装置
595、被成膜基板、有机EL显示装置和蒸镀方法
596、被成膜基板、有机EL显示装置和蒸镀方法
597、被成膜基板、制造方法和有机EL显示装置
598、基板成膜检查装置
599、被成膜基板和有机EL显示装置
600、靶及具备该靶的成膜装置
601、利用PVD法的成膜方法以及利用于PVD法的成膜用靶
602、利用PVD法的成膜方法以及利用于PVD法的成膜用靶
603、成膜装置、成膜方法
604、成膜装置、成膜方法
605、一种成膜缓蚀剂及其制备方法
606、原料供给装置及成膜装置
607、等离子成膜装置
608、向钨膜或者氧化钨膜上形成氧化硅膜的成膜方法
609、沟槽填充方法及成膜装置
610、成膜方法和成膜装置
611、悬浮填料快速成膜装置及含该装置的序批式生物膜反应器
612、悬浮填料快速成膜装置及含该装置的序批式生物膜反应器
613、成膜装置
614、用喷头装置实现选择性原子层沉积成膜的方法
615、快速水成膜灭火装置
616、气体放电器件介质保护膜、其成膜材料及包括其的等离子显示屏
617、成膜方法和成膜装置、自发光元件的制造方法和制造装置
618、成膜方法和成膜装置、自发光元件的制造方法和制造装置
619、形成膜的材料
620、形成膜的材料
621、形成膜的材料
622、成膜测机托盘
623、导电性硬质碳膜及其成膜方法
624、可自成像成膜聚合物、其组合物以及由其制得的器件和结构
625、成膜方法和成膜装置以及存储介质
626、成膜装置
627、成膜方法、成膜装置及存储介质
628、成膜方法、成膜装置及存储介质
629、成膜装置和成膜材料供给方法
630、一种镁材切削加工成膜一体化设备
631、含氟水性聚氨酯成膜交联剂的制备方法
632、成膜装置
633、成膜装置
634、成膜用组合物
635、含三嗪环的聚合物和含有该聚合物的成膜用组合物
636、含三嗪环的聚合物和含有该聚合物的成膜用组合物
637、一种提高包衣成膜效率的装置
638、成膜装置
639、直接充当水成膜泡沫灭火剂主剂的全氟己烷表面活性剂的制备方法
640、一种合成橡胶检验用胶乳连续成膜干燥装置
641、一种可同时成膜的机械加工用钻头
642、一种铝合金有机封闭膜的制备方法及其成膜液
643、成膜装置及成膜方法
644、成膜装置及成膜方法
645、含有低VOC成膜助剂的水性涂料组合物
646、含有作为羟基特戊酸新戊二醇单酯的酯的低VOC成膜助剂的水性涂料组合物
647、选择性原子层沉积成膜方法
648、一种罗替戈汀*盐或*碱成膜凝胶制剂及其制备方法
649、一种带有活性粒子检测部件的等离子成膜装置
650、一种等离子成膜装置
701、成膜用品和成膜方法以及脱模剂
702、成膜用品和成膜方法以及脱模剂
703、成膜用品和成膜方法以及脱模剂
704、层板式成膜连续好氧发酵罐
705、层板式成膜连续好氧发酵罐及其发酵方法
706、成膜方法、成膜装置及存储媒体
707、成膜方法、成膜装置及存储媒体
708、成膜装置
709、新型抗溶性水成膜泡沫灭火剂的制备方法
710、耐寒耐海水型水成膜泡沫灭火剂的制备方法
711、成膜装置
712、倒装芯片型半导体背面用膜和半导体背面用切割带集成膜
713、半导体背面用切割带集成膜和生产半导体器件的方法
714、成膜装置
715、成膜装置
716、洁厕块内包装液体成膜生产工艺
717、无版缝镭射转移涂层的成膜组合物及其制备方法
718、氧化硅膜的成膜方法以及成膜装置
719、用于水性组合物的成膜助剂
720、一种不锈钢表面成膜制备方法
721、处理装置及成膜方法
722、集成膜法技术纯水装置系统
723、集成膜法技术纯水装置系统
724、溅射成膜装置及防附着部件
725、成膜装置
726、成膜方法和成膜装置
727、发光面板、发光面板的制造方法以及成膜系统
728、工序基座以及包括其的成膜装置
729、包含成膜聚合物的化妆品
730、溅射成膜装置
731、溅射成膜装置
732、溅射成膜装置
733、含有酰胺聚结溶剂的成膜涂料组合物及其使用方法
734、用于锂离子电池的含硫成膜功能电解液及制备方法与应用
735、一种以地质聚合物材料为成膜物质的无机涂料
736、田菁胶成膜型种衣剂
737、用于个人护理的成膜组合物及方法
738、一种室温成膜中空聚合物乳液及其制备方法
739、一种室温成膜中空聚合物乳液及其制备方法
740、碳纳米管的形成方法和碳纳米管成膜装置
741、薄膜的形成方法及成膜装置
742、成膜装置
743、成膜装置
744、光学薄膜成膜的直接式光学监控系统
745、成膜源、真空成膜装置、有机EL元件及其制造方法
746、成膜方法
747、成膜方法
748、真空处理装置、基板和对位掩模的移动方法以及对位方法及成膜方法
749、半导体背面用切割带集成膜
750、半导体背面用切割带集成膜

资料说明:
    1、资料都是原版专利技术全文,含技术员姓名、地址、技术原理、技术原文,技术配方、工艺流程、制作方法,设备原理、机械设计构造、结构说明图等。
    2、资料都是电子文档格式,可在电脑中阅读、放大缩小、打印,可以网传,也可以刻录在光盘中邮寄。欢迎联系咨询, 电话:028-87023516   18980857561客服QQ:853136199

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