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1、形成介电薄膜的组合物、形成介电薄膜的方法及通过所述方法形成的介电薄膜
[简介]： 本套资料提供了一种混合的复合金属氧化物形式的用于形成薄膜的液体组合物，其中，所述复合金属氧化物由包含铜Cu的复合氧化物B和包含锰Mn的复合氧化物C混合到由通式Ba1-xSrxTiyO3表示的复合金属氧化物A中而形成，其中，复...
2、形成介电薄膜的组合物、形成介电薄膜的方法及通过所述方法形成的介电薄膜
[简介]： 本套资料提供一种薄膜形成装置的清洗方法、薄膜形成方法和薄膜形成装置，该薄膜形成装置的清洗方法用于在向薄膜形成装置的反应室内供给处理气体而在被处理体上形成薄膜后去除被附着在装置内部的附着物，其中，该薄膜形成装置...
3、薄膜形成装置的清洗方法、薄膜形成方法及薄膜形成装置
[简介]： 用于形成BST介电薄膜的介电薄膜形成组合物，该组合物包括用于形成薄膜的液态组合物，其采用混合的复合金属氧化物的形式，在其中包括Cu铜的复合氧化物B被混合到由式Ba1-xSrxTiyO3其中0.2<x<0.6和0.9<y<1.1表示的复合金...
4、介电薄膜形成组合物，形成介电薄膜的方法和由该方法所形成的介电薄膜
[简介]： 本套资料提供一种薄膜形成装置的清洗方法、薄膜形成方法及薄膜形成装置。该清洗方法在供给成膜用气体而在被处理体上形成非晶形碳膜之后，除去被附着在装置内部的附着物，包括：加热工序，将上述反应室内和连接于该反应室的排气...
5、薄膜形成装置的清洗方法、薄膜形成方法及薄膜形成装置
[简介]： 本套资料提供一种薄膜半导体器件的制造方法、薄膜半导体阵列基板的制造方法、结晶硅薄膜的形成方法以及结晶硅薄膜的形成装置，包括：准备基板10的工序；形成栅电极11的工序；形成栅极绝缘膜12的工序；形成源电极19和漏...
6、薄膜半导体器件的制造方法、薄膜半导体阵列基板的制造方法、结晶硅薄膜的形成方法以及结晶硅薄膜的形成装置
[简介]： 本套资料提供一种未包含对环境的负载较大的物质且能够用简单的方法制作适合用于薄膜电容器的介电薄膜且保存稳定性优异、涂膜性良好的介电薄膜形成用组合物、介电薄膜的形成方法及通过该方法形成的介电薄膜。一种液状介电薄...
7、介电薄膜形成用组合物、介电薄膜的形成方法及介电薄膜
[简介]： 本套资料提供一种薄膜形成装置及薄膜形成方法，其目的在于要求缩减用于在阻焊抗蚀剂等薄膜上印字的工序数。本套资料的薄膜形成装置及薄膜形成方法中，第1喷头及第2喷头对置于对象物。第1喷头及第2喷头分别吐出第1色及第2色的液...
8、薄膜形成装置及薄膜形成方法
[简介]： 本套资料提供一种薄膜图案形成装置、薄膜图案形成方法及装置的调整方法。当产生喷嘴孔堵塞等不良情况时，不得不停止运转中的装置并更换喷头。期望缩减装置的运转停止时间的技术。本套资料的薄膜图案形成装置中，设置有多个吐出薄...
9、薄膜图案形成装置、薄膜图案形成方法及装置的调整方法
[简介]： 本套资料提供一种薄膜形成方法及薄膜形成装置，其不会导致降低吞吐量就能够固化基板上附着的薄膜材料。本套资料的薄膜形成方法中，在载物台上保持基板，从喷头吐出光固化性薄膜材料的液滴，并使薄膜材料的液滴着落于基板的表面...
10、薄膜形成方法及薄膜形成装置
[简介]： 本套资料提供一种能够进行高精度且均匀的涂敷的薄膜形成装置以及薄膜形成方法。本套资料中，是具备吸附保持涂敷对象物（100）的吸附工作台（9）、一面从喷墨式喷嘴向被吸附保持在吸附工作台（9）上的涂敷对象物（100）的表面排出涂敷...
11、薄膜形成装置以及薄膜形成方法
[简介]： 一种强电介质薄膜形成用组合物，为用于形成选自PLZT、PZT及PT的1种强电介质薄膜的强电介质薄膜形成用组合物，其特征在于，是用于形成采取混合复合金属氧化物形态的薄膜的液态组合物，所述混合复合金属氧化物是在通式1：P...
12、强电介质薄膜形成用组合物、强电介质薄膜的形成方法及通过该方法形成的强电介质薄膜
[简介]： 用于形成选自PLZT、PZT及PT的1种强电介质薄膜，本套资料的强电介质薄膜形成用组合物是用于形成采取混合复合金属氧化物形态的薄膜的液态组合物，所述混合复合金属氧化物是在通式1：PbxLayZrzTi1-zO3式1中0.9＜x＜1....
13、强电介质薄膜形成用组合物、强电介质薄膜的形成方法及通过该方法形成的强电介质薄膜
[简介]： 本套资料提供一种薄膜形成方法及薄膜形成装置。该薄膜形成装置的控制部在控制升温用加热器而将反应管内加热到装载温度之后，在反应管内收容半导体晶圆。接着，控制部在控制升温用加热器而将收容有半导体晶圆的反应管内加热到...
14、薄膜形成方法及薄膜形成装置
[简介]： 本套资料的课题在于提供一种薄膜形成方法，其能够省去测试成膜所导致的成膜浪费，能够提高成膜效率。所述薄膜形成方法为：溅射靶材29a、29b，在保持于旋转筒13且旋转的基板S和监视基板S0上以目标膜厚T1形成作为第1薄膜...
15、薄膜形成方法和薄膜形成装置
[简介]： 薄膜形成装置系统包括：加热室（3），其是处理室之一，配置有用于加热基板（16）的加热装置（20）和使基板（16）与加热装置（20）相对移动的基板传送装置（12A）；ZnO溅射室（4），其是处理室之一，配置有用于在加热了的基板（16）上形成薄膜...
16、薄膜形成装置系统及薄膜形成方法
[简介]： 本套资料的目的是提供一种即使经过相对低温的热处理也电阻率、电阻温度特性、高温稳定性、耐盐水性均优良的薄膜电阻器和用于制造所述薄膜电阻器的电阻体材料以及制造方法。本套资料提供了一种电阻体材料，该电阻体材料是在Ni合...
17、电阻体材料、电阻薄膜形成用溅射靶、电阻薄膜、薄膜电阻器以及它们的制造方法
[简介]： 本套资料的电介质薄膜的形成方法中，通过溶胶-凝胶法来形成Ba1-xSrxTiyO3（0.2＜x＜0.6、0.9＜y＜1.1）的电介质薄膜时，从涂布至烧成的工序进行2～9次，使初次烧成后形成的薄膜的厚度为20～80nm、使第2次以后的烧成后形成的各薄膜的厚...
18、电介质薄膜的形成方法和具有该电介质薄膜的薄膜电容器
[简介]： 在使用气体冷却的成膜方法中，一边实现充分的冷却效果一边避免因气体导入导致成膜率下降和或对真空泵施加过大的载荷。本套资料的薄膜形成装置，具备：在薄膜形成区域9具有与基板7的背面接近的冷却面10s的冷却体10；...
19、薄膜形成装置及薄膜形成方法
[简介]： 本套资料提供能够防止灰尘附着在工件上、并防止薄膜材料附着在工件的侧部，而且能够以均匀的厚度形成薄膜的薄膜形成装置及薄膜形成方法。具有对工件在1的上表面进行保持的保持部2、把树脂R供给到被保持部2保持的工件...
20、薄膜形成装置及薄膜形成方法
[简介]： 本套资料披露了制造具有曲面特征的薄膜的方法。利用掩膜、通过氢*蚀刻方法，在平坦的基板表面中形成多个凹*，每个凹*均为倒置平头金字塔形状。在基板表面之上形成氧化物层。该氧化物层可以被剥离，以在基板表面之中的凹...
21、用于形成双面薄膜光伏电池的方法和薄膜太阳能装置
22、用于形成双面薄膜光伏电池的方法和薄膜太阳能装置
23、有机半导体微粒材料、有机半导体薄膜、有机半导体膜形成用分散液、有机半导体薄膜的制造方法及有机薄膜晶体管
24、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材
25、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材
26、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材
27、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材
28、薄膜形成用蒸镀材及具备该薄膜的薄膜片以及层叠片
29、选择性沉积的薄膜器件以及形成选择性沉积的薄膜的方法
30、形成薄膜图案的方法以及具有该薄膜图案的平板显示器
31、多层薄膜以及由多层薄膜形成的袋子
32、薄膜形成装置及薄膜形成方法
33、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材
34、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材
35、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材
36、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材
37、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材
38、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材
39、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材
40、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材
41、薄膜形成装置和薄膜形成方法
42、薄膜形成装置和薄膜形成方法
43、薄膜形成装置和薄膜的形成方法
44、薄膜及其形成方法以及具备该薄膜的半导体发光元件
45、溅射膜形成用硅靶和形成含硅薄膜的方法
46、锗硅薄膜的形成方法及形成装置
47、薄膜形成方法及薄膜形成装置
48、薄膜形成设备及方法、压电元件形成方法、排放头和设备
49、形成半导体薄膜的方法和半导体薄膜检测装置
50、薄膜、薄膜的形成方法和具有该薄膜的太阳能电池
51、感光性树脂组合物、感光性薄膜、肋图案的形成方法、中空构造及其形成方法以及电子零件
52、感光性导电薄膜、导电膜的形成方法和导电图案的形成方法
53、薄膜形成方法及薄膜形成装置
54、光催化薄膜、形成光催化薄膜的方法以及覆盖有光催化薄膜的制品
55、光催化薄膜、形成光催化薄膜的方法以及覆盖有光催化薄膜的制品
56、硅质薄膜形成用组合物及应用所述组合物的硅质薄膜的形成方法
57、薄膜形成方法及薄膜形成装置
58、多晶碘化汞薄膜与金电极形成良好欧姆接触的制备方法
59、柔性基底薄膜表面微结构的形成方法
60、形成氮化硅基薄膜或碳化硅基薄膜的方法
61、有机半导体薄膜的形成方法及薄膜半导体装置的制造方法
62、有机半导体薄膜的形成方法及薄膜半导体装置的制造方法
63、薄膜形成装置
64、薄膜形成装置
65、薄膜光电电池及其形成方法
66、形成半导体薄膜的方法及半导体薄膜检查装置
67、一种用以在基片上形成SiN薄膜的装置
68、一种用以在基片上形成SiN薄膜的装置
69、利用无缓冲剂制造工艺形成薄膜太阳能电池的方法
70、薄膜形成基板及其薄膜形成装置
71、薄膜形成装置
72、晶种层的形成方法以及含硅薄膜的成膜方法
73、一种在钙钠玻璃表面形成耐久性双层减反射薄膜的方法
74、薄膜形成装置
75、薄膜的形成方法和成膜装置
76、高介电性薄膜形成用的涂层组合物和高介电性薄膜
77、一种MOCVD加热装置、其形成方法和一种MOCVD形成薄膜的方法
78、光控制用薄膜、使用该薄膜的背光装置及凹凸图案形成用模具的制作方法
79、薄膜形成装置
80、薄片或薄膜形成轧辊、薄片或薄膜形成设备及拱起控制方法
81、用于薄膜电容器制造的喷墨图案形成、由此制造的薄膜电容器以及包含此薄膜电容器的系统
82、用于薄膜电容器制造的喷墨图案形成、由此制造的薄膜电容器以及包含此薄膜电容器的系统
83、形成半导体薄膜的方法和制造薄膜半导体器件的方法
84、低温二氧化硅薄膜的形成方法
85、低温二氧化硅薄膜的形成方法
86、低温二氧化硅薄膜的形成方法
87、低温二氧化硅薄膜的形成方法
88、一种形成低负载效应薄膜的方法
89、包装薄膜收纳容器以及该薄膜保持部形成用标签
90、形成PN、PIN、N-型和P-型半导体薄膜的方法
91、在基于碲化镉的薄膜光伏器件中形成窗口层的方法
92、溅射靶材、溅射靶材的制造方法及薄膜形成方法
93、用于形成光波导的环氧树脂、用于形成光波导的可固化薄膜、光传输软性印刷电路、以及电子信息装置
94、低折射率层形成用组合物、使用该组合物的防反射薄膜、偏光板以及显示装置
95、一种利用SiN薄膜针孔形成局部掺杂或金属化的方法
96、聚丙烯树脂组合物及由其形成的薄膜
97、薄膜形成装置、薄膜形成方法和薄膜形成系统
98、用于形成薄膜的大容量沉积设备
99、用于形成薄膜的沉积设备
100、薄膜形成用旋转系统
101、保护层形成用薄膜
102、保护层形成用薄膜
103、用于形成图案的模制薄膜组合物及利用该组合物所制得的模制薄膜
104、光学功能薄膜、相位差薄膜、光学功能层形成用组合物、及光学功能薄膜的制造方法
105、全息图图案形成方法、附带全息图图案的薄膜的制造方法、层压薄膜、和容器
106、薄膜形成方法和薄膜太阳能电池的制造方法
107、薄膜太阳能电池及其形成方法
108、基于晶硅的薄膜太阳能电池及其形成方法
109、化合物系薄膜及其形成方法、以及使用该薄膜的电子装置
110、用于薄膜钝化的双靶溅射系统及用该系统形成薄膜的方法
111、反射薄膜以及由该反射薄膜形成的背光用反射片
112、用于在薄膜加湿器的扩散介质上形成通道的方法
113、在高深宽比图案上形成具有Si-N键的共形薄膜的方法
114、用于形成薄膜的方法及旋转系统
115、在薄膜光伏器件中形成作为背接触的各向异性传导层的方法
116、质子传导无机薄膜、其形成方法及包括其的燃料电池
117、单液型油墨与其制法、薄膜的形成方法
118、形成无氢含硅介电薄膜的方法
119、聚合的四面体碳薄膜及其形成方法以及使用该薄膜形成精细图形的方法
120、溶胶组合物及其制备方法、在玻璃表面形成自洁增透薄膜的方法及自洁增透玻璃
121、碲化镉基薄膜光伏器件中使用的导电透明氧化物膜层的形成方法
122、碲化镉基薄膜光伏器件中使用的导电透明氧化物膜层的形成方法
123、薄膜形成装置的洗净方法、薄膜形成装置及程序
124、以微波处理固化形成于基材表面的聚合物薄膜的方法
125、氧化物烧结体、由其形成的靶和氧化物半导体薄膜
126、用在制造离子水的装置中的其上通过气体团簇涂层形成有介孔TiO2薄膜的电极及其制造方法和装置
127、薄膜的形成方法及成膜装置
128、感光性组合物、以及感光性薄膜、感光性层叠体、永久图案形成方法以及印刷基板
129、薄膜形成方法及薄膜层叠结构
130、压电体薄膜、喷墨头、使用喷墨头形成图像的方法、角速度传感器、使用角速度传感器测定角速度的方法、压电发电元件以及使用压电发电元件的发电方法
131、利用无芯封装件形成用于电磁干扰屏蔽的金属填充的管芯背侧薄膜
132、基于碲化镉的薄膜光伏器件所用的导电透明氧化物膜层的形成方法
133、基于碲化镉的薄膜光伏器件所用的导电透明氧化物膜层的形成方法
134、基于碲化镉的薄膜光伏器件所用的导电透明氧化物膜层的形成方法
135、形成用于基于碲化镉的薄膜光伏装置的导电透明氧化物膜层的方法
136、薄膜形成方法和用于形成含硅绝缘膜的装置
137、金属醇盐化合物、薄膜形成用原料及薄膜制造方法
138、薄膜形成方法及薄膜形成装置
139、薄膜形成用原料以及薄膜的制造方法
140、辊模、制造辊模的方法及采用辊模形成薄膜图案的方法
141、导电性薄膜、透明发热体、图案形成方法和记录介质
142、导电性薄膜、透明发热体、图案形成方法和记录介质
143、形成薄膜用组合物及光学薄膜
144、薄膜形成方法和量子点设备
145、硅系薄膜和硅系薄膜的形成方法
146、沉积源、具有该沉积源的沉积装置和形成薄膜的方法
147、形成薄膜锂离子电池的方法
148、形成有类金刚石碳薄膜的材料及用于制造该材料的方法
149、用于形成有机聚合物薄膜的方法及设备
150、用于形成垂直薄膜锂离子电池的方法
151、用于形成薄膜锂离子电池的方法
152、压电体薄膜、喷墨头、使用喷墨头形成图像的方法、角速度传感器、使用角速度传感器测定角速度的方法、压电发电元件以及使用压电发电元件的发电方法
153、用于薄膜太阳能电池形成的硅墨水、对应方法和太阳能电池结构
154、薄膜形成方法
155、铁氧体材料由其形成的铁氧体薄膜和具有铁氧体薄膜的射频识别标签
156、形成薄膜图案的设备和方法
157、制造印板的方法和通过使用该方法来形成薄膜图案的方法
158、形成金属化合物薄膜的方法
159、用于形成有机绝缘薄膜的组合物和由这种组合物形成的有机绝缘薄膜
160、防止薄膜塌陷形成填胶气泡的薄膜覆晶封装构造
161、用于形成光学透明的导电金属或金属合金薄膜的方法以及由其制成的膜
162、用于形成光学透明的导电金属或金属合金薄膜的方法以及由其制成的膜
163、用于形成含钛薄膜的组合物和使用方法
164、透明薄膜的形成方法根据该方法形成的透明薄膜及具有透明薄膜的透明基体
165、印刷装置和使用该印刷装置来形成薄膜图案的方法
166、在滚轮表面形成氮化钛薄膜的方法
167、光学式膜厚计以及具有光学式膜厚计的薄膜形成装置
168、低温形成非晶态透明氧化物薄膜的方法
169、薄膜太阳能电池用背面电极的形成方法
170、透明导体薄膜的形成
171、气相沉积反应器以及用于形成薄膜的方法
172、层叠体形成用乙烯-不饱和酯共聚物薄膜
173、铝薄膜的形成方法
174、在应变薄膜上植入有冷和或分子碳的升起式源极漏极的形成方法
175、在基材上形成薄膜的方法和设备
176、曝光机台、阵列基板、图案化薄膜、光刻胶层及形成方法
177、在薄膜光伏制品上形成保护层的方法和用这样的层制成的制品
178、压电体薄膜及其制造方法、喷墨头、用喷墨头形成图像的方法、角速度传感器、用角速度传感器测定角速度的方法、压电发电元件和用压电发电元件发电的方法
179、化学气相沉积用原料及使用了该原料的含硅薄膜形成方法
180、由多层薄膜复合形成多个空腔的太阳能吸收和保温装置
181、压电体薄膜及其制造方法、喷墨头、使用喷墨头形成图像的方法、角速度传感器、使用角速度传感器测定角速度的方法、压电发电元件以及使用了压电发电元件的发电方法
