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1、用于产生等离子体的电极、具有该电极的等离子体室和用于原位分析或原位处理层或等离子体的方法
[简介]： 本套资料涉及一种用于在等离子体室中产生等离子体的rf电极，其特征在于光学通孔。本套资料还涉及一种等离子体室，包括rf电极和具有用于容纳衬底的衬底固定器的反电极，其中在rf电极和反电极之间能够构成用于产生等离子体的高频...
2、用于产生等离子体的电极、具有该电极的等离子体室和用于原位分析或原位处理层或等离子体的方法
[简介]： 本套资料主要内容为一种用于等离子体装置的磁铁及等离子体装置。本套资料的磁铁包括“回”字形实体的磁轭、在磁轭内部的一对磁极以及包围磁极的金属线圈。其中，磁极的形状为梯台型，磁轭为扁平状。本套资料的磁铁具有大间隙、高场强、大磁...
3、一种用于等离子体装置的磁铁及等离子体装置
[简介]：本技术提供了一种等离子体灯设备和用于等离子体灯的设备，该等离子体灯设备包括支柱结构，该支柱结构具有覆盖在支柱结构的表面区域上的材料，该支柱结构具有第一端和第二端。该设备还具有沿着支柱结构构造的螺旋线圈结...
4、等离子体灯设备和用于等离子体灯的设备
[简介]： 主要内容为用于检测在电容耦合RF驱动的等离子体处理腔室内的等离子体约束状态的变化的方法和系统。在一个或多个实施方案中，等离子体无约束检测方法采用了模拟电路或数字电路，模拟电路或数字电路能够主动轮询具有静电卡盘（E...
5、用于检测等离子体处理系统中等离子体约束状态的方法及装置
[简介]： 本套资料提供一种用于等离子体设备的下电极以及等离子体设备，包括基座以及绝缘层，所述绝缘层设置在所述基座的顶面，所述绝缘层在其厚度方向上的等效电容具有下述分布趋势：即，沿所述绝缘层的径向方向，所述绝缘层的等效电容...
6、用于等离子体设备的下电极及等离子体设备
[简介]： 这里所公开的是一种用于在等离子体室中生成等离子体的等离子体室设置方法。制备多个等离子体线圈，包括第一等离子体源线圈、第二等离子体源线圈和第三等离子体源线圈，该第二等离子体源线圈在其中心部分具有高于第一等离子...
7、用于设置具有自适应等离子体源的等离子体室的方法、使用该等离子体室的等离子体蚀刻方法和用于自适应等离子体源的制造方法
[简介]： 在用于产生等离子体射束的方法中，该等离子体射束被这样从一个由电场和磁场产生的等离子体中这样引出，使得一个高频电压被施加到一个引出电极和一个具有激励面的激励电极的高频电极装置上并且该等离子体相对引出电极在时...
8、用于产生等离子体射束的方法以及等离子体源
[简介]： 本套资料主要内容为一种用于等离子体加工设备的反应腔室和等离子体加工设备，涉及等离子体加工技术领域，为精确测量静电卡盘的表面温度，降低成本，而且能够实时的进行温度控制而发明。所述反应腔室，包括腔体和腔体内部的静电卡盘...
9、用于等离子体加工设备的反应腔室和等离子体加工设备
[简介]： 适用于大口径非球面光学零件的大气等离子体加工装置，本套资料属于光学加工领域。它是为了解决传统的机械抛光技术存在的低加工效率而无法满足光学领域对大口径光学元件的大批量需求的问题。它的旋转电极设置在密封罩内，旋转...
10、适用于大口径非球面光学零件的大气等离子体加工装置
[简介]： 本套资料提供了一种用于产生等离子体与离子间反应的装置，该装置至少包括：常压下工作的质谱离子源（如ESI、APCI等）；常压电离气室，气室设有辅助气通路和废气、废液排出口；玻璃或陶瓷等绝缘材料制成的可离子传输管；加在离子传...
11、用于产生等离子体与离子间反应的质谱装置及方法
[简介]： 本套资料主要内容为一种用于等离子体污水处理系统的高压脉冲电源，包括工频整流滤波电路、一级升压电路、二级升压电路和电压耦合电路，所述工频整流滤波电路与市电网相接将工频交流电转换为直流电，所述一级升压电路的输入端和输...
12、一种用于等离子体污水处理系统的高压脉冲电源
[简介]： 本套资料涉及一种氢等离子体法用于费托合成的钴基催化剂及制备方法。以钴为活性组分，碳材料为载体制成，钴在催化剂中的质量百分含量为5%~50%；制备方法是将浸渍有钴基催化剂前驱体的碳材料置于氢等离子体环境下处理，钝化，所...
13、氢等离子体法用于费托合成的钴基催化剂及制备方法
[简介]：本技术涉及一种用于等离子体供给装置10，40，60的模块11，12，61-76，所述等离子体供给装置用于在1-1000MHz范围的频率下以大于500W的功率为等离子体加工装置或者气体激光器供给等离子体，所述模块具有模块衬底21，2...
14、用于等离子体供给装置的模块和等离子体供给装置
[简介]：本技术主要内容为一种适用于过氧化氢等离子体灭菌器的提纯装置，它包括蒸发器（1）、真空泵（2）和抽吸管，抽吸管包括第一支管（3）和第二支管（4），第一支管（3）和第二支管（4）的一端均连接真空泵的抽气孔，第一支管（3）的另一端与灭...
15、一种适用于过氧化氢等离子体灭菌器的提纯装置
[简介]： 本套资料主要内容为一种适用于过氧化氢等离子体灭菌器的提纯装置，它包括蒸发器（1）、真空泵（2）和抽吸管，抽吸管包括第一支管（3）和第二支管（4），第一支管（3）和第二支管（4）的一端均连接真空泵的抽气孔，第一支管（3）的另一端与灭菌器...
16、一种适用于过氧化氢等离子体灭菌器的提纯装置
[简介]： 本套资料涉及一种用于执行等离子体化学气相沉积工艺的设备。该设备包括大体上为圆柱形的共振器，该圆柱形共振器具备外圆柱壁，该外圆柱壁包围围绕圆柱轴线沿圆周方向延伸的共振腔。该共振器还具备在圆柱方向限界共振腔的侧壁...
17、用于执行等离子体化学气相沉积工艺的设备
[简介]：本技术主要内容为一种用于真空等离子体工艺的机械式晶片卡压装置，包括晶片衬底和电极、陶瓷压环、压环连杆、连杆支架、永磁体组对、驱动电机、电机支架；晶片衬底放置于电极上，陶瓷压环设置在晶片衬底上方，通过压环连杆与连杆...
18、用于真空等离子体工艺的机械式晶片卡压装置
[简介]： 本套资料主要内容为一种用于真空等离子体工艺的机械式晶片卡压装置，包括晶片衬底和电极、陶瓷压环、压环连杆、连杆支架、永磁体组对、驱动电机、电机支架；晶片衬底放置于电极上，陶瓷压环设置在晶片衬底上方，通过压环连杆与连杆支架...
19、用于真空等离子体工艺的机械式晶片卡压装置
[简介]：本技术主要内容为一种用于真空等离子体工艺的晶片衬底承载装置，包括承载盘，其特征在于：所述承载盘设置有盘底板，所述盘底板正面上设有一个或多个凹陷坑，形成用于放置晶片衬底的一个或多个容置腔；所述容置腔的周缘形成盘...
20、用于真空等离子体工艺的晶片衬底承载装置
[简介]： 本套资料主要内容为一种用于真空等离子体工艺的晶片衬底承载装置，包括承载盘，其特征在于：所述承载盘设置有盘底板，所述盘底板正面上设有一个或多个凹陷坑，形成用于放置晶片衬底的一个或多个容置腔；所述容置腔的周缘形成盘侧壁...
21、一种用于等离子体刻蚀的元胞-水平集联合模拟方法
22、一种用于等离子体刻蚀的元胞-水平集联合模拟方法
23、用于执行等离子体化学气相沉积过程的装置
24、一种用于触发两间隙等离子体喷射装置的电路
25、一种用于导尿管消*的介质阻挡放电等离子体装置
26、用于非晶硅电池沉积的等离子体气相沉积设备
27、适用于尖后缘机翼的等离子体环量控制方法
28、一种用于大气压等离子体聚合的装置
29、用于等离子体推进器的电极结构及电极固定结构
30、一种用于等离子体刻蚀剖面演化的三维计算方法
31、用于三维晶体管应用的采用等离子体掺杂和蚀刻的选择性鳍成形工艺
32、用于等离子体净化消*器上的铝型材反应器
33、一种用于高密度等离子体发生装置的整体式放电腔室
34、用于污染物的除去的等离子体反应器
35、一种用于治理废气的等离子体催化的装置
36、具有用于引导冷却气体的多个入口的等离子体喷*
37、等离子体辅助的沉积方法和用于执行该方法的设备
38、一种用于ETPPECVD的扩展热等离子体发生装置
39、一种用于ETPPECVD等离子体发生器的水冷铜板
41、一种用于直流弧放电高密度等离子体发生器的阳极底座
42、一种用于直流弧放电高密度等离子体发生器的阳极底座
43、用于等离子体应用的大面积ICP源
44、用于等离子体观察的暗场纳米光谱电化学检测池
45、用于灭菌消*的大气压等离子体发生装置
46、用于灭菌消*的大气压等离子体发生装置
47、一种用于表面等离子体光刻的纳米光栅掩模制备方法
48、用于等离子体增强型化学气相沉积工艺的等离子体感应电荷损坏的控制
49、一种适用于等离子体工艺设备的磁力耦合真空传动装置
50、一种适用于等离子体工艺设备的磁力耦合真空传动装置
51、一种用于电感耦合式等离子体刻蚀室的气体传送装置
52、用于太阳电池的等离子体激元增强上转换器及其制备方法
53、用于制造离子传导膜的等离子体喷涂方法
54、用于等离子体反应器上的电源板
55、一种用于工业厂房的高频等离子体无极放电灯
56、一种适用于等离子体加强化学气相沉积工艺设备的一体化真空腔体结构
57、一种适用于等离子体加强化学气相沉积工艺设备的一体化真空腔体结构
58、一种用于放电等离子体极紫外光刻光源的介质及其应用系统
59、一种用于等离子体平板显示器的蓝色发光材料及其制备方法
60、一种用于直流弧放电高密度等离子体发生装置的冷却板
61、用于防止等离子体*电极之间的电迁移的系统、方法及设备
62、用于防止等离子体*电极之间的电迁移的系统、方法及设备
63、一种用于引燃长空气火花间隙的等离子体喷射装置及其电路
64、一种用于等离子体浸没注入中剂量检测方法
65、用于等离子体浸没注入中控制注入元素分布陡度的方法
66、一种用于等离子体浸没注入中剂量检测装置
67、一种用于感应加热的托盘及等离子体加工设备
68、用于等离子体刻蚀结构的光学探测方法及计算机辅助系统
69、用于等离子体刻蚀的先进工艺控制方法
70、一种用于等离子体侦测的装置
71、一种用于硅太阳能电池的等离子体去边夹具
72、一种用于液体脉冲等离子体推力器的推进剂喷注装置
73、一种用于液体脉冲等离子体推力器的推进剂喷注装置
74、用于等离子体应用和或感应加热应用的功率供给系统
75、用于点燃和维持等离子体的方法和装置
76、用于热水器消*的等离子体消*装置
77、一种用于棉梭织物前处理的等离子体装置
78、用于产生等离子体的天线单元和包括所述天线单元的基板处理装置
79、用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统
80、用于改进等离子体沉积和再溅射均匀性的磁场（矢势）阱的产生
81、用于基于电流的等离子体偏移检测的系统和方法
82、用于基于电流的等离子体偏移检测的系统和方法
83、用于检测基于电压的等离子体偏移的系统与方法
84、用于产生等离子体并用于朝着目标引导电子流的装置
85、用于生成脉冲等离子体的脉冲等离子体装置和方法
86、一种适用于乘用车的等离子体空气净化后视镜
87、一种适用于乘用车空调出风口的等离子体净化器
88、一种用于安放闹钟的等离子体消*装置
89、一种适用于乘用车空调的等离子体净化器
90、一种适用于烟灰缸的等离子体净化装置
91、一种适用于电视柜的等离子体净化器
92、一种适用于麻将桌底下的等离子体净化器
93、一种适用于文件柜内的等离子体消*装置
94、大气等离子体设备和用于该设备的波导
95、用于点燃馈送有交流电的等离子体的点燃电路
96、适用于便携式元素光谱仪的等离子体原子化器
97、制备用于结合的表面的氧等离子体转化方法
98、一种用于高压放电等离子体水处理的设备
99、用于等离子体浸没离子注入的剂量测量设备
100、用于等离子体室中的均匀等离子体分布的等离子体源
101、用于等离子体设备腔室的等离子清洗方法
102、用于等离子体设备腔室的等离子清洗方法
103、用于形成非等温等离子体射流的方法和装置
104、用于短生命周期物种的具有内建等离子体源的处理腔室盖设计
105、用于介质阻挡放电等离子体方法的电极
106、用于等离子体处理系统的感应线圈设备的方法和装置
107、一种用于清洗管道的螺旋波等离子体清洗装置
108、用于在激光产生的等离子体远紫外光源中的靶材传送保护的系统和方法
109、用于感应耦合等离子体离子源的等离子体点燃器
110、用于太阳能电池的长程等离子体激元波导阵列增效单元
111、用于太阳能电池的长程等离子体激元波导阵列增效单元
112、用于等离子体发生器的可控制谐波的射频系统
113、用于生产颗粒的等离子体溅射工艺
114、用于制造高纯硅的等离子体沉积装置和方法
115、用于对离子产生和工艺气体离解具有独立控制的等离子体蚀刻的系统、方法和装置
116、一种用于等离子体气化发电的生活垃圾预处理工艺
117、一种采用羰基钨为前驱体制备用于聚变堆中面向等离子体钨涂层的方法
118、一种用于防止等离子体辐射的盖子
119、用于大气环境下电子束等离子体的诊断探针及诊断方法
120、用于等离子体显示屏的工作气体
121、一种用于废水处理的水下脉冲射频等离子体放电装置
122、一种用于废水处理的水下脉冲射频等离子体放电装置
123、具有改进的用于等离子体清洁处理的适应性的物体
124、从用于等离子体室内的上部电极清除金属污染物的方法
125、一种用于等离子体蚀刻室的边环装置部件
126、一种用于等离子体发生器中的射频天线
127、用于控制等离子体处理系统的方法和装置
128、应用于等离子体煤裂解过程的毫秒级快速冷却装置
129、用于借助微波生成等离子体的装置
130、用于图案化的磁盘媒体应用的等离子体离子注入工艺
131、用于刻蚀腔的变压耦合式等离子体窗及包括其的刻蚀腔
132、一种用于表面改性和等离子体聚合的材料处理装置
133、用于太阳能电池的等离子体织构化装置
134、用于去除污染物质的等离子体反应器及其驱动方法
135、用于测量等离子体参数的传感器
136、用于执行等离子体约束的多外围环装置
137、用于高真空室的穿入式等离子体发生器
138、用于等离子体喷射系统的气体分配环组件
139、用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统
140、用于等离子体工艺的系统
141、一种用于无烟煤的等离子体点火燃烧器
142、一种用于无烟煤的等离子体点火燃烧器
143、用于等离子体电弧检测、隔离和预防的系统和方法
144、用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置
145、用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置
146、一种用于过氧化氢等离子体灭菌器的灭菌效果检测装置
147、一种用于过氧化氢等离子体灭菌器的灭菌效果检测装置
148、等离子体沉积源和用于沉积薄膜的方法
149、应用于等离子体裂解煤过程的淬冷装置
150、应用于等离子体裂解煤过程的淬冷系统
151、一种用于氨分解制氢的板式等离子体反应器
152、用于无损字画分析的微等离子体探针质谱成像方法及装置
153、用于产生等离子体的电极装置和设备
154、用于纳米粉体的合成和材料加工的等离子体反应器
155、用于产生成束的等离子体束的方法和射束发生器
156、一种用于深海浅地层地震勘探的脉冲等离子体相干*阵
157、用于远程等离子体源辅助的含硅膜沉积的方法和装置
158、用于形成太阳能应用的微晶硅层的脉冲等离子体沉积
159、用于探测等离子体轴承电流的方法
160、产生用于对衬底表面图案化的等离子体放电的设备和方法
161、用于灭菌消*的梳形电极大气压等离子体装置
162、用于灭菌消*的梳形电极大气压等离子体装置
163、用于压缩等离子体的系统和方法
164、用于多电极电感等离子体源的无源功率分配
165、用于等离子体处理室中的包括真空间隙的面向等离子体的探针装置
166、用于检测等离子体处理室中的等离子体不稳定的无源电容耦合静电CCE探针装置
167、一种用于饮用水安全消*的脉冲等离子体装置
168、用于饮用水安全消*的脉冲等离子体装置
169、一种用于高深宽比纳米图形加工的反射式表面等离子体成像光刻方法
170、一种用于高深宽比纳米图形加工的表面等离子体成像光刻方法
171、用于等离子体加工设备的电极板和清除工艺沉积物的方法
172、一种用于中、低频等离子体加工设备的电极板和反应腔室
173、一种用于提高内燃机燃烧效率的等离子体发生器
174、用于基板的等离子体辅助处理的等离子体处理装置和方法
175、用于接合曝露于等离子体的陶瓷部件的抗腐蚀接合试剂及接合方法
176、包括可以被单轴元件连接的等离子体和或激光加工头的用于工件热加工的系统
177、用于动态移动基板的等离子体处理的线性等离子体源
178、用于在接合过程中调节脉冲电弧等离子体的能量输入的方法和设备
179、用于最优化等离子体处理系统中的大气等离子体的装置
180、用于产生纳米颗粒的低压高频脉冲等离子体反应器
181、一种用于过氧化氢等离子体灭菌器的蒸发器
182、一种用于过氧化氢等离子体灭菌器的蒸发器
