【新版】

技术蚀刻,电脑加工制造工艺方法图文全套

作者：admin 来源：金鼎工业资源网更新时间：2021/9/6

开本：16开
资料形式：DVD/U盘/电子版正文语种: 简体中文
可否打印：是装帧: 平装
分类：专业技术
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1、蚀刻绒状结构技术制作高效能太阳能电池金属背电极

[简介]：本套资料主要是采用酸碱水溶液蚀刻机制原理，使其表面形成凹凸形绒状结构，增加入射光到达背电极后反射光散射之方向性，提升光在吸收层的行进距离，以增加太阳能电池发电效率。先取得一个基板，利用溅镀方法镀制金属背电极膜。...

2、蚀刻绒状结构技术制作高效能太阳能电池金属背电极

[简介]：于图案化具有不同类型之本质应力之受应力层的期间，能够通过根据指示蚀刻率及个别蚀刻工艺205之效能的光学测量数据281的受控蚀刻205，而大幅减少介于第一及第二介电层230、240间之二氧化硅基底的蚀刻指针材料之沉...

3、通过增进的蚀刻控制策略来图案化形成的晶体管上方的受不同应力层的技术

[简介]：使用经蚀刻的刻面技术生产的基于AlGaInN的激光器。一种用于制造能够*蓝光的激光器的工艺，其中在CAIBE中使用超过500℃的温度和超过500V的离子束来蚀刻GaN晶片，以形成激光器波导以及镜。

4、使用经蚀刻的刻面技术生产的基于AlGaInN的激光器

[简介]：一种用于制造能够*蓝光的激光器的工艺，其中在CAIBE中使用超过500℃的温度和超过500V的离子束来蚀刻GaN晶片，以形成激光器波导以及镜。

5、使用经蚀刻的刻面技术生产的基于AlGaInN的激光器

[简介]：本套资料提供一种提高光伏电池产能制程装置，其包含：一真空加热腔体，该真空加热腔体设有加热器、干式帮浦；一真空电浆辅助化学气相沉积PECVD制程腔体，该真空电浆辅助化学气相沉积制程腔体设有气体供应装置、高频电极、分子...

6、可提升太阳能导电玻璃效率的蚀刻技术方法

[简介]：本套资料提供一种可提升太阳能导电玻璃效率的蚀刻技术方法，此技术方法包含入口端、蚀刻槽、市水槽、R.O纯水槽、风乾槽、出口端，在各槽设置输送轮轴，并于蚀刻槽、市水槽、R.O纯水槽设置喷管，以达蚀刻之动作，再将玻璃经由入口送进...

7、可提升太阳能导电玻璃效率的蚀刻技术方法

[简介]：本文提供一种清洗半导体器件的方法。根据该方法，提供101半导体器件，并将胶束溶液施加103到半导体器件上。该方法尤其用于清洗铜和硅表面以及从通孔或沟槽表面上除去加工残余物。

8、用于后蚀刻残余物的胶束技术

[简介]：本套资料主要内容为一种控制等离子体处理室中光致抗蚀剂蚀刻步骤的方法。光致抗蚀剂蚀刻步骤设计成将沉积在衬底表面上的光致抗蚀层向后蚀刻成具有预定光致抗蚀剂厚度的更薄的光致抗蚀层。该方法包括使用等离子体蚀刻过程蚀刻光...

9、光致抗蚀剂蚀刻中前边界点技术

[简介]：一种用电脑刻绘光固化技术蚀刻贝壳海螺的方法，首先用文泰刻绘软件扫描所选图案并处理成线条状后，用电脑刻字机刻在不干胶贴上，然后将刻有图案的不干胶贴贴在贝壳或海螺上面，用氢氟酸或氢氟酸与*的配比为7∶3比例的溶...

10、用电脑刻绘光固化技术蚀刻贝壳海螺的方法

[简介]：一种用电脑刻绘光固化技术蚀刻玻璃的方法，首先用文泰刻绘软件扫描所选图案并处理成的线条状雕刻在不干胶贴上，然后将刻有图案的不干胶贴贴在玻璃基板上面，用氢氟酸或氢氟酸与*的配比为7∶3比例的溶液涂刷，腐蚀后用清...

11、用电脑刻绘光固化技术蚀刻玻璃的方法

[简介]：本套资料电子智能标签化学蚀刻废液以废治废的处理和提取技术，利用铝电化学工艺过程中产生的工业废渣“白泥”作为处理电子智能标签化学蚀刻废液的主题投料。通过发明人设计的工艺流程，使废液得到彻底地处理，并在废液处理过程...

12、电子智能标签化学蚀刻废液以废治废的处理和提取技术

[简介]：本套资料主要利用薄膜电极沉积法MembraneElecodeposition处理含有铜离子的氯化铁的蚀刻废液。将氯化铁蚀刻废液置于阴极室中，其中的氯化铁完全转化为氯化亚铁后，铜离子于阴极上沉积为铜，以机械力将阴极上的铜屑刮下，...

13、蚀刻废液的回收技术及其装置

[简介]：本套资料主要内容为一种测定蚀刻深度的方法，一种形成屏蔽栅极沟槽SGT结构的方法以及一种半导体装置晶圆。在具有沟槽的底层的一部分上形成材料层。用材料填充所述的沟槽。在材料层测试区域之上设有抗蚀性涂层。所述的抗蚀性涂层...

14、屏蔽栅极沟槽技术中对蚀刻深度的测定

[简介]：本套资料主要内容为一种测定蚀刻深度的方法，一种形成屏蔽栅极沟槽SGT结构的方法和一种半导体装置晶圆。在具有沟槽的底层的一部分上形成材料层。用材料填充所述的沟槽。在材料层的测试区域上放置抗蚀性涂层，从而定义位于抗蚀性...

15、屏蔽栅极沟槽技术中基于电阻来测定蚀刻深度

[简介]：公开用于等离子体处理系统中离子辅助蚀刻处理的改进方法和装置。根据本套资料的不同方面，主要内容为抬升边环，槽形边环和RF耦合边环。本套资料有利于改善整个衬底晶片的蚀刻率均匀性。由本套资料提供的蚀刻率均匀性的改善不仅提高...

16、改善蚀刻率均匀性的技术

17、改善蚀刻率均匀性的技术

[简介]：一种用于金属标牌、牌匾、字画行业中的金属立体蚀刻防护模板空心技术，用电脑刻绘机将文字图形在及时贴膜上刻成双边空心形，贴在金属板上，贴实后去掉双边空心膜，使蚀刻文字图形呈空心形状暴露在外，进行蚀刻，根据凸出表现形...

18、金属立体蚀刻防护模板空心技术

[简介]：本套资料提供了一种用于在超导薄膜上使用选择蚀刻技术形成超导器件（２３２）的方法。该方法利用将离子注入与化学蚀刻结合的快速蚀刻。超导薄膜要保留的部分在离子注入处理（２１７）中被掩盖（２１５）。然后化学蚀刻处理以比没有注入的部...

19、使用选择蚀刻技术形成超导器件的方法

[简介]：光化学蚀刻制做金属照片技术，特点是在金属表面进行光化学蚀刻的去除加工，利用去除加工深度的变化反映实物的色调分布与层次，使具有一定光洁度的金属表面形成清晰的具有层次感的逼真图像。本套资料所制出的金属画或金属照片...

20、光化学蚀刻制做金属照片技术

[简介]：一种高密度动态随机存取存储器电容器的制造方法。利用单一蚀刻在半导体衬底上制作电容器，该电容器由接触窗与金属氧化物半导体场效应晶体管的源极电接触。本套资料可减少使用光刻胶的数量且将不去除限定的光刻胶而直接蚀刻...

21、玻璃钢表面蚀刻技术

22、玻璃钢表面蚀刻技术

23、铝及铝合金表面精细蚀刻技术

24、铜及铜合金表面精细蚀刻技术

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