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【新版】

电子回旋共振,等离子体加工制造工艺方法图文全套

作者:admin    来源:金鼎工业资源网       更新时间:2021/9/6
  • 开本:16开
  • 资料形式:DVD/U盘/电子版    正文语种: 简体中文
  • 可否打印:是    装帧: 平装
  • 分类:专业技术
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1、电子回旋共振磁性模块与电子回旋共振装置
        [简介]: 本套资料公开一种电子回旋共振磁性模块与电子回旋共振装置,其中该磁性模块具有多层导磁环体以及多个磁柱,每一个导磁环体具有一内环壁与一外环壁,每一个导磁环体内开设有多个径向孔。该多个磁柱,其分别嵌入于该多层导磁环...
2、电子回旋共振磁性模块与电子回旋共振装置
        [简介]: 本套资料公布了一种长寿命电子回旋共振ECR离子源的新结构。在该结构中,波导采用脊波导设计,脊波导外围加磁场。与波导连接的微波窗位于离子源的中上部,微波窗下端高于离子源的中心。这一独特设计使ECR离子源从根本上避免了...
3、一种长寿命电子回旋共振离子源
        [简介]: 本套资料提供了一种电子回旋共振离子源,尤其是一种能直接观察离子源内放电过程的新型结构全永磁强流电子回旋共振ECR离子源。本套资料采用了透光性高的石英玻璃来做放电室;石英玻璃造成的微波泄露可通过石英玻璃外部的带有...
4、一种电子回旋共振离子源
        [简介]: 本套资料涉及电子回旋共振等离子体源,由壳体、中央的波分配器(12)及在壳体与中央的波分配器(12)之间的镀层防护(7)构成。依据本套资料,镀层防护(7)由有机的或矿物质的纤维材料制成。纤维材料可以是由玄武岩、碳材质或氧化铝制成...
5、具有镀层防护的电子回旋共振等离子体源及该镀层防护的应用
        [简介]: 本方法包括使一个或更多零件1相对于基本源2的至少一个固定直列作至少一个旋转运动,基本源2的所述一个或者多个直列被设置为与所述一个或更多零件的一个或更多旋转轴线平行。
6、通过电子回旋共振产生的等离子体基本源来处理至少一个零件的表面的方法
        [简介]: 公开一种通过从等离子体沉积而在衬底14上形成无定形材料膜、例如无定形硅膜的方法。将衬底放在具有限定容积的罩壳中,通过管子20将膜前体气体例如硅烷引入罩壳内。通过出口22从罩壳内抽出未反应的和离解的气体以便在...
7、无定形膜通过电子回旋共振的膜沉积
        [简介]: 描述了一种通过从等离子体沉积而在衬底14上形成无定形材料膜的方法。将衬底14放在罩壳中,通过管子20将膜前体气体引入罩壳内,并通过管子22从罩壳内抽出未反应的和离解的气体以便在其中提供低压力。以给定频率和功...
8、具有渐变带隙的无定形膜通过电子回旋共振的膜沉积
        [简介]: 本套资料公开一种用于集成电路钝化层的氮化硅薄膜的低温制造方法,该氮化硅薄膜生长在位于淀积室中的衬底上。其过程包括:将衬底清洗后放在工艺室中;对工艺室抽真空并设定工艺条件;将硅源气体与氮化源气体先混合后通入工艺...
9、电子回旋共振等离子体化学汽相淀积氮化硅薄膜的方法
        [简介]: 本套资料主要内容为一种用于电子回旋共振等离子体源的分布式永磁磁场装置,主要解决现有技术能耗高、体积大、均匀性差的问题。整个装置包括磁铁200,屏蔽板301、无磁模板302,该无磁模板上设有数个梯形固定孔201和一个圆形固定孔20...
10、用于电子回旋共振等离子体源的分布式永磁磁场装置
        [简介]: 本套资料主要内容为一种微波电子回旋共振等离子体化学气相淀积设备,该设备包括微波功率源及传输系统101、微波谐振腔体102、工艺室与样品台系统103、真空系统104、气路系统105、自动传片系统106、控制系统107,其中,微波谐振腔体内设...
11、微波电子回旋共振等离子体化学气相淀积设备
        [简介]:本技术涉及一种用于电子回旋共振等离子体源的谐振腔体装置,该装置包括:同轴波导、介质窗,其中,同轴波导200采用圆波导管和锥形波导管组成的一体结构,该同轴波导下方固定有法兰盘700,法兰盘中间开有圆形窗口,该窗口外...
12、用于电子回旋共振等离子体源的谐振腔体装置
        [简介]: 本套资料涉及一种ECR等离子体源,包括一个同轴的微波供给线1,它具有一内导体2和一外导体3,其中,内导体2以其一个端头作为天线7绝缘地穿过一个真空法兰5,该真空法兰将壁中通往等离子体室6一个孔口封闭。与微波...
13、电子回旋共振等离子体源
        [简介]: 描述了一种用于通过从等离子体沉积在衬底上形成非晶硅aSi:H薄膜的方法。所述衬底被放置在壳体中,薄膜前驱气体被引入壳体中,并且未反应的和解离的气体被从所述壳体抽取,以在所述壳体中提供低压。将微波能量引入所述壳体...
14、利用电子回旋共振沉积非晶硅薄膜
        [简介]: 本套资料涉及一种控制RCE等离子室1中的电子温度的设备。该设备包括至少一个位于能量大于一预先确定的能量的电子路径上的调制器100,以便形成这些电子的障碍。本套资料用于离子源和等离子机。
15、控制电子回旋共振RCE等离子体中电子温度的设备
        [简介]: 热丝辅助微波电子回旋共振化学气相沉积方法及装置,属微波低温等离子体领域。本套资料方法包括利用电子回旋共振系统中的微波源、磁场线圈在谐振腔内产生电子回旋共振的等离子体,特征在于,在谐振腔出口与沉积室的样片台之间...
16、热丝辅助微波电子回旋共振化学气相沉积方法及装置
        [简介]: 提高电子回旋共振化学气相沉积速度的方法及装置属于微波低温等离子体技术领域。包括有微波源、真空密封、薄膜沉积、真空泵系统、磁场产生及气路、气体控制部分,磁场产生是在位于谐振腔壁外放置单并磁场线圈,产生电子回旋共振...
17、提高电子回旋共振化学气相沉积速度的方法及装置
        [简介]: 微波电子回旋共振等离子体均匀化方法及装置属于微波低温等离子体技术领域。其特征在于,使微波通过在位置上存在相互旋转180度关系的双三角形波导管产生两束微波,使这两束微波经过双三角形的波导管后直接通过微波窗片耦合...
18、微波电子回旋共振等离子体均匀化方法及装置
        [简介]: 本套资料涉及制备微电子介电层、光电子材料与器件保护层、介电层的生长方法。用电子回旋共振微波等离子体技术,适合于单晶Si衬底片,在一定微波功率条件下,通过调整[N2][Ar]气体流速比,气压和生长时间控制薄膜厚度,在低温下...
19、用电子回旋共振微波等离子体制备超薄氮化硅薄膜
        [简介]: 一种ECR除灰装置,包括:除灰室,在其一侧设置有玻璃基片或晶片的插入口、除灰气体的排气口和供气部件;下电极,在所述除灰室中,下电极上安装有玻璃基片或晶片,其中光阻材料施加到玻璃基片或晶片上;RF电源,用于对所述下电极...
20、用于处理玻璃基片或晶片的电子回旋共振除灰装置
        [简介]: 本套资料主要内容为一种利用电子回旋共振产生远紫外的方法,它用民用频段微波源为电子回旋共振提供能源;用钕铁硼永磁体构建磁镜场;密封的石英球内充入低压支撑气体并掺入工作物质汞、氙;石英球置于网状微波腔体中,并安置在相对...
21、电子回旋共振微波等离子体增强金属有机化学汽相沉积外延系统与技术
22、电子回旋共振微波等离子体增强金属有机化学汽相沉积外延系统与技术

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