博谷资料网

最新最全资料
联系我们 售后服务 站长资讯通告:
搜索:
您的位置网站首页 > 化学冶金 > 金属冶炼

《反应器,化学气相沉积类专题技术光盘》

咨询电话:028-87023516 手机:18980857561 微信:13764530
订购请记住光盘编号:CD2001-100845    光盘价格:0.00元
订购方式:
1、货到付款--点击此处填写订单
2、担保交易--
1、对电感耦合的等离子体沉积反应器的工艺气管理
[简介]: 披露了关联于加工半导体衬底的硬件和方法的实施例。一示例性薄膜沉积反应器,包括:工艺气分配器,该工艺气分配器包括:被定位以将等离子气提供给薄膜沉积反应器中的等离子发生区的等离子气馈给进口以及被定位以将薄膜前体...

2、对电感耦合的等离子体沉积反应器的工艺气管理
[简介]: 本发明提供了一种用于原子层沉积和化学气相沉积反应器的使用点阀歧管(POU阀歧管),其允许多个前体通过共同的出口被输送到半导体处理室。该歧管可具有多个前体入口和清除气体入口。该歧管可配置成使得当清除气体按照路线通...

3、用于原子层沉积和化学气相沉积反应器的使用点阀歧管
[简介]: 本发明的实施例涉及在沉积设备中的反应器的结构,所述沉积设备通过使用多级文丘里效应从而能够有效去除在衬底上沉积的过量的材料。在反应器中,不同高度的收缩区形成在注入室和排气部之间。随着净化气体或前体从注入室行进...

4、具有多级净化结构的沉积设备中的反应器
[简介]: 一种用于化学汽相沉积的转盘反应器,其包括真空室和铁磁流体穿通件,该铁磁流体穿通件包括上部和下部铁磁流体密封件,马达轴通过该铁磁流体穿通件进入真空室中。马达联接至马达轴,并且定位在上部和下部铁磁流体密封件之间...

5、用于化学汽相沉积的具有铁磁流体密封件的转盘反应器
[简介]: 本发明涉及使用亚硫酰氯和相关材料来干式腐蚀金属有机气相外延MOVPE反应器的内表面以除去沉积物。所述方法还可用于干式腐蚀这类反应器内的过程基板以便清洁和处理那些基板。本发明可能特别适合于在制造基于III-V半导体...

6、用于薄膜沉积反应器和薄膜层的原位干式清洁的过程和方法
[简介]: 1.本外观设计产品的名称:半导体处理反应器的有织纹的陶瓷沉积环。2.本外观设计产品的用途:半导体处理反应器。3.本外观设计的设计要点:该半导体处理反应器的有织纹的陶瓷沉积环的整体形状。4.最能表明设计要点的图片或者照...

7、用于处理成批的衬底的原子层沉积反应器及其方法
[简介]: 一种在用于在大衬底上执行原子层沉积ALD的沉积设备中的伸长反应器组件。伸长反应器组件包括一个或者多个注入器和或游离基反应器。每个注入器或者游离基反应器在衬底穿过注入器或者游离基反应器时向衬底上注入气体或者...

8、用于在大衬底上执行原子层沉积的具有多个分段的延伸反应器组件
[简介]: 本发明涉及一种沉积反应器,其包括:限定膨胀空间的进给部件,其被构造成引导反应物作为上到下的流从等离子体源110流向反应室,所述膨胀空间朝向反应室335变宽;和提升机构,其用于从反应室顶侧将至少一个基材360装载...

9、具有等离子体源的沉积反应器
[简介]: 本发明公开了流化床反应器系统和分配器以及用于由可热分解的硅化合物例如三氯硅烷生产多晶硅的方法。该方法通常包括在多晶硅生产过程中通过使用四卤化硅还原反应器壁上的硅沉积物。

10、使用外围四氯化硅减少硅在反应器壁上的沉积的方法
[简介]: 本发明涉及一种用于在一个或多个衬底上涂覆涂层的方法,所述涂层的成分以至少两种气体的形式借助于一进气装置输入工艺过程腔室7,其中,所述气体分别被引入所述进气装置的叠置的腔室1,2,并且从那通过连接至所述工艺过...

11、用于在化学气相沉积-反应器中沉积涂层的方法及用于化学气相沉积-反应器的进气装置
[简介]: 本发明涉及一种具有加工腔1的CVD反应器,所述加工腔1的底部3由基座2形成,所述基座2用于接收待用层进行涂敷的衬底4,所述加工腔1的顶部6由进气元件5的下侧形成,其中该进气元件5的下侧具有多个均匀分...

12、用于沉积层的CVD反应器和方法
[简介]: 本发明涉及一种电容耦合平行板等离子体增强型化学气相沉积反应器,该反应器包括被整合在RF电极中的气体分配单元,并包括气体出口。本发明的目的是提供所提及的类型的平行板反应器,利用该反应器能够生产具有厚度高均匀性和...

13、具有减少的工具痕迹的用于均匀薄膜沉积的平行板反应器
[简介]: 本发明涉及用于气体沉积方法的反应器,在该方法中,对基体的表面进行交替的起始原料表面反应。反应器包括第一室2、安装在第一室2内部的第二室4以及用于加热第一室2的加热装置。根据本发明,反应器还包括一个或多个用...

14、气体沉积反应器
[简介]: 本发明主要涉及原位产生催化剂[钯Pd0]和所述催化剂在玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷反应器内壁上沉积的方法。本发明还涉及反应器,优选是微流体装置,它可通过按照本发明所述方法在其内壁上原位产生和沉积钯Pd0得到。本发明总体...

15、钯Pd0在反应器中的原位形成与沉积
[简介]: 本发明涉及一种用于通过位于硅沉积反应器外部的高温计来测量硅沉积反应器中硅棒的温度和生长厚度的设备。本发明的目的是提供一种设备,其允许以足够的精度贯穿整个沉积过程地进行连续的温度测量和生长厚度测量。这被实现...

16、用于测量硅沉积反应器中硅棒的温度和生长厚度的设备和方法
[简介]: 流化床反应器的气体分布单元构造为将可热分解的化合物引向反应器的中心部分并远离反应器壁,以便防止材料沉积到反应器壁上,并且,用于在反应器中生产多晶硅产品的方法减少了沉积在反应器壁上的硅的量。

17、流化床反应器系统及减少硅沉积在反应器壁上的方法
[简介]: 本实用新型公开了一种气固相沉积反应器,包括进气室、喷动气导管、喷管、反应室、反应气导管、进料导管和出料导管,所述进气室连接在反应室的底部;所述喷动气导管、喷管设置在进气室内且相互连通,其中喷管垂直向上,其喷嘴通向...

18、一种气固相沉积反应器
[简介]: 本发明涉及一种与包括反应腔室的原子层沉积反应器相连接的装置,该装置包括用来向反应腔室2供给反应气体并且用来回吸反应气体的部件,以及用来供给阻隔气体的部件。用来供给与回吸反应气体和用来供给阻隔气体的部件包括...

19、与原子层沉积反应器相连接的装置
[简介]: 本发明涉及一种方法和装置,其中沿着至少一条馈入线141,142将前体蒸气引导进入沉积反应器的反应室110,并且通过在反应室内建立前体蒸气的垂直流并且使得该垂直流以垂直方向进入垂直放置的衬底170之间,从而在反应室...

20、用于沉积反应器的方法和装置
[简介]: 一种沉积薄膜的装置。基板支撑单元可转动地安装于反应器内部并设有多个基板承载部分,其上分别承载多个基板。气体注入单元包括:多个源气体注入器,以提供至少二种不同的源气体至基板支撑单元上;多个冲洗气体注入器,设置于...

21、在晶圆上沉积薄膜的反应器
[简介]: 本发明提供了从流化床沉积反应器顶部移除颗粒物质的装置和方法。从反应器的顶部移除产品可以实现降低的脱离高度并且提供一种控制床的高度水平的被动装置,尽管上述沉积增加了床的重量和高度。降低脱离高度的好处是允许在...

22、从流化床沉积反应器顶部移除颗粒物质的装置和方法
[简介]: 一种超临界流体-共溶剂沉积法制备纳米复合材料反应器主要由反应器筒体、载体料筐、料筐顶盖、进料口和出料口、反应器端盖和密封垫圈组成;在距反应器底部37~23高度位置处设有放置载体料筐的圆环形平台,料筐底部支承板和顶...

23、超临界流体-共溶剂沉积法制备纳米复合材料反应器
[简介]: 通过化学气相沉积CVD生产大量多晶硅的方法和过程,其中,普遍用于西门子型反应器中的传统的硅“细棒”被具有相似的电性能但表面积更大的异形硅丝所代替,例如硅管、硅带或其它形状的横截面。含有硅的气体,例如氯硅烷或硅烷...

24、在化学气相沉积反应器中提高的多晶硅沉积
[简介]: 本发明公开了一种ALD反应器的反应室,其包括限定了反应室的内部部分28的底壁、顶壁和在底壁与顶壁之间延伸的侧壁。该反应器进一步包括一个或多个用于将气体送入反应室的送入口30和一个或多个用于将送入反应器的气体从...

25、原子层沉积反应器
[简介]: 本发明的实施例提供处理制程,以在气相沉积腔室中的制程期间降低基板的污染。处理制程可在例如原子层沉积ALD制程的气相沉积制程之前、期间或之后进行。在ALD制程的一例子中,含有中间处理步骤及预定循环数目的ALD循环的制...

26、批次处理原子层沉积反应器的处理制程
[简介]: 公开了一种反应器200,其配置用于使衬底经历交替重复的气相反应物的表面反应。反应器包括反应室、多个入口210,212和排出口220。反应室包含反应空间251。反应器也包括反应室内的气体流动控制引导结构205。气体流动...

27、多入口原子层沉积反应器
[简介]: 本发明提供当减少不希望的反应产物在处理系统中沉积时,一种用于气态污染物的控制燃烧与分解的系统与方法。典型的系统包含一个新颖的热反应室设计,其具有堆栈的有孔陶瓷环,例如气体的流体可以被导入堆栈的有孔陶瓷环以沿...

28、在工艺污染物减量过程中用以降低颗粒沉积的反应器设计
[简介]: 一种金属有机化学气相沉积反应器的气体分布装置,包括:顺序叠加、彼此连接在一起的控温板、气体分布板,其中所述控温板与所述气体分布板之间通过可拆卸固定装置固定连接;所述控温板、气体分布板上分别预设有若干通道,在所述...

29、金属有机化学气相沉积反应器的气体分布装置及反应器
[简介]: 本发明是一种反应器、化学气相沉积反应器以及有机金属化学气相沉积反应器。反应器具有多个独立热库。每一热库可通过加热与冷却的方式,来调整热库温度。第一热库与第二热库面对面相对设置,且两者内侧具有一预定的距离及一预...

30、反应器、化学气相沉积反应器以及有机金属化学气相沉积反应器
[简介]: 一种热化学气相沉积反应器以及提高反应器中热辐射率的方法,在进行反应之前,对反应腔中的器件预先进行表面处理,改变器件表面的粗糙度或者器件表面的材料组成,使器件表面钝化,从而提高器件的热辐射率数值。本发明使反应腔...

31、热化学气相沉积反应器以及提高反应器中热辐射率的方法
[简介]: 一种化学气相沉积反应器或外延层生长反应器,包括一反应腔,所述反应腔内设置至少一基片承载架和一用于支撑所述基片承载架的支撑装置,所述基片承载架包括一第一表面和一第二表面,所述基片承载架的第二表面设置有至少一个...

32、化学气相沉积反应器或外延层生长反应器及其支撑装置
[简介]: 一种化学气相沉积反应器或外延层生长反应器,包括一反应腔,所述反应腔内设置至少一基片承载架和一用于支撑所述基片承载架的支撑装置,所述基片承载架包括一第一表面和一第二表面,所述基片承载架的第二表面设置有至少一个...

33、化学气相沉积反应器或外延层生长反应器及其支撑装置
[简介]: 一种化学气相沉积反应器或外延层生长反应器,包括一反应腔,所述反应腔内设置至少一基片承载架和一用于支撑所述基片承载架的支撑装置,所述基片承载架包括一第一表面和一第二表面,所述基片承载架的第二表面设置有至少一个...

34、化学气相沉积反应器或外延层生长反应器及其支撑装置
[简介]: 本发明公开一种应用于气相沉积的反应器,其包含承载体以及加热载体用的加热装置;承载体包含第一承载体以及形成于第一承载体之上的第二承载体,其中第一承载体的电磁波加热系数大于第二承载体的电磁波加热系数。

35、应用于气相沉积的反应器
[简介]: 一种用于金属有机化学气相沉积反应器的气体分布装置,包括:顺序叠加、彼此连接在一起的控温气体分布板、第一气体分布板和第二气体分布板,其中所述控温气体分布板与所述第一气体分布板之间焊接固定,所述第一气体分布板和所...

36、用于金属有机化学气相沉积反应器的气体分布装置及反应器
[简介]: 在各种实施例中,本发明提供用于稳定化学气相沉积CVD反应器系统中的纤丝的系统、方法及装置。系统包括具有多个电连接的底板、自该底板延伸的纤丝对及连接该纤丝对的稳定件。各纤丝与该两个电连接电接触,且在该两个电连接...

37、用于稳定化学气相沉积反应器中的纤丝的方法及系统
[简介]: 一种依据控制程序运行的薄膜沉积反应器,该反应器包括第一、第二阀门,用以防止第一、第二阀门同时被开启的控制单元,以及反应室。第一、第二气体分别经由被开启的第一、第二阀门被导入反应室。控制程序分别设定第一阀门和第二...

38、薄膜沉积反应器
[简介]: 多晶硅化学气相沉积反应器中的叶片冷却结构,包括,冷却水进口1、分水仓2、叶片进水口3、叶片冷却水道4、叶片冷却水出口5、回水仓6、回水出口7;其中,冷却水通过进口1进入分水仓2,每个叶片的冷却水从分水仓2流入各叶片进水口3,...

39、多晶硅化学气相沉积反应器中的叶片冷却结构
[简介]: 本发明涉及一种含有加热体20的加热组件10,该加热体20至少部分地直接被多孔烧结涂层30覆盖,其中该加热体20及该多孔烧结涂层30各自包含至少90重量%的钨。

40、用于有机金属化学气相沉积反应器的平面加热器的加热组件
[简介]: 用以减少在例如CVD反应器之类的容器中的辐射测温偏离误差的设备。在一实施例中,辐射测温计利用焦外远心透镜装置。焦外远心透镜装置聚焦于无限远处,但却被用于捕获来自于焦点外之相对接近之目标物例如在数米内之辐射。捕...

41、化学气相沉积反应器中辐射测量偏离误差的缩减
[简介]: 本实用新型公开了一种用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置,所述管道冷却式气体分布装置包括气体喷射板,该气体喷射板上方设有气体连接板,在气体连接板与气体喷射板之间设有气体分布板;在上述各结构...

42、一种用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置
[简介]: 本发明公开了一种用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置,所述管道冷却式气体分布装置包括气体喷射板,该气体喷射板上方设有气体连接板,在气体连接板与气体喷射板之间设有气体分布板;在上述各结构板之...

43、一种用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置
[简介]: 该发明涉及一种清洁CVD-反应器1的过程室4的方法,该过程室具有一个由加热装置7加热的基座6作为过程室底部5和一个与过程室底部5对置的过程室盖罩3,在CVD过程中在过程室底部5和过程室盖罩3上形成的寄生...

44、化学气相沉积反应器过程室清洁方法
[简介]: 本发明是一种具有多个子反应器的金属有机物化学气相沉积MOCVD设备。该设备包括气路装置和多个子反应器。利用共用气路设备和分气装置,至少两套完全相同的MOCVD子反应器在相同的条件下同时生长以得到一致的外延薄膜或者...

45、具有多个子反应器结构的金属有机化学气相沉积设备
[简介]: 本发明是一种具有多个子反应器的金属有机物化学气相沉积MOCVD设备。该设备包括气路装置和多个子反应器。利用共用气路设备和分气装置,至少两套完全相同的MOCVD子反应器在相同的条件下同时生长以得到一致的外延薄膜或者...

46、具有多个子反应器结构的金属有机化学气相沉积设备
[简介]: 本发明涉及用于化学气相沉积的双室反应器。更特别地,本发明涉及一种用于进行膜沉积的装置,包括一个或多个工艺管,热源,一个或多个反应物气体歧管,和一个或多个排气歧管。一个或多个工艺管限定了第一反应空间和第二反应空...

47、用于化学气相沉积的双室反应器
[简介]: 本发明提供了通过化学气相沉积(CVD)制造硅的反应器,该反应器包括:反应器主体,其可在可操作地布置于反应器的旋转设备的帮助下围绕轴线旋转;至少一个侧壁,其围绕反应器主体;反应气体的至少一个入口;残余气体的至少一个出...

48、通过化学气相沉积生产硅的反应器和方法
[简介]: 本发明涉及用于将硅切割成在化学气相沉积多晶硅反应器中使用的籽晶杆的锯。本发明还提供了将硅切割成在化学气相沉积多晶硅反应器中使用的籽晶杆的系统和方法。一种方法包括用锯片将硅锭切割成硅片、旋转硅片并将硅片切割...

49、用于将硅切割成在化学气相沉积多晶硅反应器中使用的籽晶杆的锯
[简介]: 本发明通过使沉积反应发生在密封的坩埚内部而不是水冷反应器的整个空腔内部而克服了西门子反应器的*。坩埚本身位于筒形反应器内部,其在坩埚和反应器壁之间可具有热屏蔽件,以显著减少辐射能损耗。此外,坩埚中沉积表面...

51、一种用于金属有机化学气相沉积反应器的斜入式气体喷淋头
52、一种用于金属有机化学气相沉积反应器的斜入式气体喷淋头
53、化学沉积反应器及其喷洒装置
54、喷嘴设备和化学气相沉积反应器
55、喷嘴设备和化学气相沉积反应器
56、用于超长碳纳米管的化学气相沉积的扩大反应器
57、气相沉积反应器以及用于形成薄膜的方法
58、通过化学汽相沉积在晶片上生长外延层的无基座式反应器
59、气相沉积反应器系统及其方法
60、用于气相沉积的反应器盖子组件
61、气相沉积反应器系统及其方法
62、用于生物学废水反应器的沉积物排出系统
63、一种用于化学气相沉积工艺的反应器
64、通过利用四氯硅烷减少壁上沉积的流化床反应器生产硅
65、通过利用四氯硅烷减少壁上沉积的流化床反应器生产硅
66、一种金属有机化学气相沉积反应器
67、一种金属有机化学气相沉积反应器
68、一种金属有机化学气相沉积反应器
69、一种金属有机化学气相沉积反应器喷淋装置
70、化学气相沉积反应器
71、高效外延化学气相沉积(CVD)反应器
72、带有圆柱形进气机构的金属有机化合物化学气相沉积反应器
73、一种矩形化学气相沉积反应器
74、具有圆形地对称于溅射靶材的RF及DC馈给的物理气相沉积反应器
75、在化学气相沉积反应器中用于管丝的夹头及电桥的连接点
76、用于化学气相沉积反应器的方法和设备
77、在化学气相沉积反应器中用于配气的系统和方法
78、在化学气相沉积反应器中用于配气的系统和方法
79、带有沉积屏蔽板的等离子体反应器
80、用于等离子体化学气相沉积反应器的喷淋板电极
81、有机金属化学气相沉积反应器
82、化学气相沉积反应器
83、模块化化学气相沉积(CVD)反应器
84、高密度电浆化学气相沉积反应器及方法
85、具有多个进口的化学气相沉积反应器
86、具有可施加至靶材的射频电源的物理气相沉积等离子体反应器
87、具有可施加至靶材的射频电源的物理气相沉积等离子体反应器
88、带有射频加热的处理腔的化学气相沉积反应器
89、用于化学气相沉积反应器的多气体分配喷射器
90、用于化学气相沉积反应器的多气体分配喷射器
91、一种用于气相沉积的水平式反应器结构
92、化学气相沉积反应器
93、用于从甲醇至烯烃转化反应器的压缩机系统中除去沉积物的方法
94、化学气相沉积反应器
95、去除化学反应器上的沉积物的方法
96、以单一晶圆式化学气相沉积的反应器连续形成氧化物氮化物氧化物绝缘层的制造方法
97、用于电沉积编码纳米线的全自动流动体系微反应器
98、金属有机化合物气相沉积技术倒置式生长反应器
99、一种除去沉积在化学气相沉积反应器反应室内的不须要的碳产物的方法
100、一种化学气相沉积碳化硅纤维的反应器

资料说明:
    1、资料都是原版专利技术全文,含技术员姓名、地址、技术原理、技术原文,技术配方、工艺流程、制作方法,设备原理、机械设计构造、结构说明图等。
    2、资料都是电子文档格式,可在电脑中阅读、放大缩小、打印,可以网传,也可以刻录在光盘中邮寄。欢迎联系咨询, 电话:028-87023516   18980857561客服QQ:853136199

服务导航
微信咨询
最新推荐