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基片,集波导生产工艺原料配方配比技术

请记住资料编号:GY10001-25533    资料价格:480元
1、具有储水性能的土壤改进的基片,生产该基片的方法以及该基片的使用
        [简介]: 本套资料涉及一种生产木质素为基的物质的基片的生产方法,该基片用于土壤的改进,具有储水的性能,其特征在于下述步骤:提供木质素;在碱性水悬浮液或者pH值中性的水悬浮液中氧化所述木质素,在该木质素已经被氧化后,所述pH中...
2、具有储水性能的土壤改进的基片,生产该基片的方法以及该基片的使用
        [简介]: 本套资料提供一种基片加热腔室、使用基片加热腔室的方法以及基片处理设备。其中,基片加热腔室至少可同时加热2片基片,用于在基片处理工艺之前对基片进行加热。借助该基片加热腔室对基片进行加热能够有效避免后续的基片处理工...
3、基片加热腔室、使用基片加热腔室的方法及基片处理设备
        [简介]: 主要内容为一种基片加工装置,尤其主要内容为一种能够对基片进行预定加工的基片交换模块以及具有该模块的基片加工装置。所述基片加工装置的基片交换模块与一个或多个加工模块相连接,所述加工模块被配置用于加工堆叠在托盘上的多...
4、基片加工装置的基片交换模块及有该模块的基片加工装置
        [简介]: 一种用于硅基片表面处理的喷丸材料和硅基片的制备方法。所述喷丸材料,包括碳化硅颗粒,所述碳化硅颗粒的中粒径为1μm~30μm。所述硅基片的制备方法,硅基片的至少一个表面经由所述喷丸材料以轰击的方式进行表面处理。因为用于...
5、一种用于硅基片表面处理的喷丸材料和硅基片的制备方法
        [简介]: 本套资料主要内容为一种基片旋涂装置,用于有OTFT生产中,其包括承载基片的真空吸盘、固定基片的定位夹具、转动基片的转盘、与真空吸盘相连的升降机构、与转盘相连的旋转机构、位于转盘上方的下料机构和控制上述机构动作的控制机构...
6、基片旋涂装置和基片处理方法
        [简介]: 本套资料提出一种基片刻蚀方法和基片处理设备。所述基片刻蚀方法包括:S1:将待处理的基片放入反应腔室;S2:向所述反应腔室输入刻蚀气体;S3:开启激励电源以在所述反应腔室内产生等离子体;S4:开启偏压电源以向所述基片施加偏...
7、基片刻蚀方法及基片处理设备
        [简介]: 本套资料主要内容为一种基片上料组件、基片装卸载装置和PECVD设备,所述基片上料组件包括:料盒,所述料盒内具有用于存放基片的盒腔,所述基片在盒腔内适于沿料盒的上下方向排列成多层且沿料盒的左右方向排列成多排;上料传送带,所...
8、基片上料组件、基片装卸载装置和PECVD设备
        [简介]: 本套资料主要内容为基片处理设备及其腔室装置和基片加热方法。所述腔室装置包括:腔室本体,其内限定有处理腔室;设在所述处理腔室内的顶部的加热部件;设在所述处理腔室内用于支承基片的支承台,支承台的上表面与加热部件相对;和...
9、基片处理设备及其腔室装置和基片加热方法
        [简介]: 特别用于电路或模块的金属陶瓷基片包括至少一个第一外部金属层,该第一外部金属层形成金属陶瓷基片的第一表面侧,该金属陶瓷基片还包括至少一个第二外部金属层,该第二外部金属层形成金属陶瓷基片的第二表面侧,第一、第二...
10、金属陶瓷基片以及用于制造这种基片的方法
        [简介]: 本套资料主要内容为一种蓝宝石基片表面有序粗化方法,包括如下步骤:步骤1、将聚苯乙烯纳米球均匀分布在蓝宝石基片表面;步骤2、将蓝宝石基片置于Cl-BCl混合气氛中,用ICP刻蚀机进行刻蚀;步骤3、去除掉聚苯乙烯纳米球,从而得到表面...
11、一种蓝宝石基片表面有序粗化方法及蓝宝石基片、LED制备方法和LED
        [简介]: 本套资料提供了一种基片支撑单元和使用该基片支撑单元的单一类型基片抛光装置。在抛光处理期间,利用真空吸力,基片的底部表面被吸附于基片支撑单元;在后清洁处理期间,基片由基片支撑单元支撑,置于基片支撑单元上部的空间中...
12、基片支撑单元、单一类型基片抛光装置和基片抛光方法
        [简介]: 本套资料为一种自动检测基片平整度和厚度并对基片进行分选的装置。它包括底座、工作台、承片台、片盒机构、机械手、计算机控制系统、激光扫描仪、基片分选盒,所述机械手由上片臂和下片臂构成;所述计算机控制系统控制机械手的上片...
13、自动检测基片平整度和厚度并对基片进行分选的装置
        [简介]: 本套资料提供一种基片承载装置,用于承载基片,其包括至少一个托盘,并且各托盘均具有两个相反的用于承载所述基片的盘面。在应用本套资料提供的基片承载装置进行工艺时,与目前常用的同等尺寸的基片承载装置相比,可承载更多的基...
14、一种基片承载装置及应用该装置的基片处理设备
        [简介]: 本套资料提供一种基片承载装置及应用该装置的基片处理设备。其中,上述基片承载装置包括基座、分布于基座上的用于承载基片的多个托盘,以及与基座及托盘相连接的旋转机构。借助上述旋转机构可驱动基座及托盘进行稳定、可靠的旋...
15、一种基片承载装置及应用该装置的基片处理设备
        [简介]: 本套资料主要内容为一种基片加热装载设备,包括控制器、电热器、具有腔盖的真空腔体及与控制器电连接的抽真空装置、感应装置、传输装置,真空腔体设置有入口、与下游真空设备密封连接的出口及与抽真空装置对接的通气口,传输装置包括...
16、基片加热装载设备及基片加热装载的控制方法
        [简介]: 本套资料提供可快速地运送基片并有助于提高生产能力的处理模块、包括该处理模块的基片处理装置以及它们中的基片运送方法。根据本套资料一个实施方式的处理模块15包括:载置部15S,其载置基片W,被载置的所述基片W被进行...
17、处理模块、基片处理装置以及基片运送方法
        [简介]:本技术提供了一种实现自动化基片传输和原位基片测试的MOCVD处理系统,包括:具有若干个密封门的传输室,其内部设置有第一传输装置,所述第一传输装置设置有至少一个可以沿所述传输室所在的平面*旋转和伸缩的传送臂...
18、自动化基片传输和原位基片测试的MOCVD处理系统
        [简介]: 在利用过程介质在基片下侧面上处理平坦的基片的基片表面的方法中,所述过程介质对基片表面具有一种剥蚀的或者说腐蚀的作用。所述基片水平放置地从下面利用所述过程介质润湿。向上指向的基片上侧面利用水或者相应的保护液...
19、用于处理基片的基片表面的方法和装置
        [简介]: 基片传递设备包括彼此之间垂直地间隔预先确定的距离的叉。当叉从第一基片包含部分取出基片时,每个叉通过从定位在将要取出的基片下方的预卸载位置向上运动预先确定的卸载行程量提升基片并且支撑基片。预先确定的距离的值...
20、基片传递设备基片处理系统和基片传递方法
        [简介]: 本套资料涉及一种表面多孔的GaN基片的制备方法及由所述制备方法得到的GaN基片,采用工艺简单、低损伤、高腐蚀速率的湿法腐蚀方法,在GaN基片表面直接获得多孔结构。所述表面多孔的GaN基片的制备方法,包括以下步骤:a.在GaN基片...
21、旋转头、用于处理基片的设备以及用于处理基片的方法
22、旋转头、用于处理基片的设备以及用于处理基片的方法
23、由液体控制的多区基片支座改进的基片温度控制
24、基片切割系统、基片制造设备、基片划线方法以及基片切割方法
25、基片处理系统和基片处理方法
26、基片支承装置及包含该基片支承装置的溅射设备
27、用于确定基片表面质量的方法和用于加工基片的相关机器
28、基片处理方法、输送处理材料的旋转单元及基片处理装置
29、基片固定盘及利用该基片固定盘的基片校正系统及其方法
30、再生基片的方法、层积晶片制造法和适宜的再生供体基片
31、镀膜基片检测装置及镀膜基片检测方法
32、基片装取片台以及包含这种装取片台的基片镀膜设备
33、透射电子显微镜样品台转接头和所用基片及基片的制造方法
34、基片架控制装置、基片架移动控制方法及沉积装置
35、一种电子产品用焊接基片及其制备方法
36、用于真空镀膜气相沉积过程基片装夹的基片架
37、用于磁控溅射设备倒置的固定多个基片的夹具及装夹方法
38、一种干法造纸法制造的基片为载体制造*薄片的方法
39、干法造纸法制造再造*基片的方法
40、将基片传递给用于盘形基片的薄膜形成装置的方法在该方法中使用的基片传递机构和基片托架以及使用该方法的盘形记录媒体制造方法
41、消除圆对称位相型计算全息基片条纹图形畸变的方法
42、消除圆对称位相型计算全息基片条纹图形畸变的方法
43、一种下转换玻璃基片及其制备方法和在CdTe太阳能电池中的应用
44、雾化异丙醇基片干燥设备
45、一种基片承载装置
46、一种大功率晶闸管的改性钼基片及其制备方法
47、半导体基片举升装置及其实现基片举升的方法
48、源和负载直接耦合的基片集成波导滤波器
49、一种用于吸光铜基片与新型热电复合材料焊接的移动载具
50、基片集成波导双模滤波器
51、一种半导体基片的大面积邦定结构及其制造方法
52、减小基片与基片上的凸出电极之间的应力
53、玻璃基片装载架
54、可调基片架
55、玻璃基片装载架
56、基片集成波导加载介质谐振器滤波器
57、用于加热等离子体处理腔室内基片温度的电路
58、一种基片强适应性纳米材料均匀成膜方法及其装置
59、基片集成波导环行器
60、8毫米基片集成波导环形器参数确定方法
61、基于基片集成波导技术的圆波导
62、基于基片集成波导技术的圆波导
63、一种在有机柔性基片上制备可调控直径和高度的氧化锌纳米线管阵列的方法
64、半导体基片处理系统
65、可自锁的基片挡板组件
66、基片集成波导与矩形金属波导的过渡结构
67、内嵌金属化过孔相位校准的基片集成波导天线
68、内嵌金属化过孔相位幅度校准的基片集成波导天线
69、内嵌金属化过孔幅度校准的基片集成波导天线
70、一种晶体基片超精密研抛实验用载物台
71、磁流变效应粘弹性夹持的电瓷基片柔性研抛装置及方法
72、通过将两层基片层叠在一起制造生物测定基片的方法以及生物测定基片
73、一种用于清洗铌酸锂基片的装置
74、薄膜太阳能电池镀膜基片切割装置
75、处理基片的装置和方法
76、一种使用激光加工介质基片的方法
77、氧化铝陶瓷基片组
78、一种高频微带基片式环行器
79、一种用以在基片上形成SiN薄膜的装置
80、一种高频微带基片式隔离器
81、一种在基片上形成AZO膜的装置
82、一种连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置
83、一种在基片上形成AZO膜的装置
84、一种石墨烯金表面增强拉曼光谱基片的制备方法
85、基于基片集成波导的磁可调天线
86、一种用于介质基片上光刻图形的零层对准标记结构
87、硫化锌基片多光谱增透保护薄膜
88、在玻璃基片上制备稀土修饰碳纳米管-石墨烯的陶瓷复合薄膜的方法
89、在玻璃基片上制备稀土修饰碳纳米管陶瓷复合薄膜的方法
90、用于图形化衬底的蓝宝石基片的加工方法
91、基于基片集成波导的衰减器
92、扣合方便的基片焊接端子的夹紧装置
93、带有限位槽的基片焊接端子的夹紧装置
94、带有橡胶片的基片焊接端子的夹紧装置
95、一种方便装夹的直线位移传感器的基片涂抹银浆的工装
96、用于基片涂抹银浆的夹具
97、一种直线位移传感器的基片涂抹银浆的工装
98、一种薄膜体声波谐振器基片及其制备方法
101、一种内置软基片薄膜电池的光伏百叶中空玻璃
102、一种内置软基片薄膜电池的光伏百叶中空玻璃
103、基片处理装置、基片处理方法和基片固定装置
104、基片处理装置、基片处理方法和基片固定装置
105、一种提高再造*基片吸水性的方法
106、晶体谐振器基片
107、微小晶体谐振器基片
108、毫米波圆柱面共形基片集成波导缝隙阵列天线
109、前置轴承支架陶瓷基片挤出机
110、弧形基片竹胶板胶合工艺及装置
111、烘干光盘基片染料的*线装置
112、无母盘白基片生产的装置
113、用于自动调整基片厚薄的伺服装置
114、用于粘合光盘基片的双下胶装置
115、一种宽带基片集成波导环行器
116、一种可均匀调节表面温度的基片承载装置
117、一种吹干大尺寸基片所用固定支架
118、一种基于蓝宝石基片的发光二极管
119、一种基于蓝宝石基片的发光二极管元件
120、一种基于蓝宝石基片的发光二极管
121、一种在基片上制备碳纳米管-多层石墨复合结构的方法
122、一种在基片上制备碳纳米管-多层石墨复合结构的方法
123、在聚偏氟乙烯基片上制备稳定超疏水表面的简单方法
124、有源矩阵基片和配备该基片的显示装置
125、一种改进了摩擦基片粘合力的新型刹车片
126、介质加载折叠基片集成波导滤波器
127、玻璃基片装载装置及立式镀膜装置
128、镀膜基片架夹具快速调节机构
129、一种微带基片式隔离器
130、电路基片真空吸附夹具
131、一种造纸法再造*基片动态吸液性能的检测方法
132、激光切割陶瓷电路基片工作台
133、一种声表面波气体传感器基片
134、光波导基片及使用其的光电混载电路安装基片
135、基片的夹取装置
136、具有内置导电性迹线以容纳层叠基片的摄像头模块壳体
137、一种聚合物水泥基片材的制备方法
138、高含量PANH4水基氧化铝陶瓷基片及其制备方法
139、一种平衡微带线过渡的全模双脊基片集成波导
140、一种基片集成波导频率可调缝隙天线
141、基于陶瓷基片的高精度自动型钻孔机
142、基于陶瓷基片的高精度自动型钻孔机
143、一种基片集成波导频率可调缝隙天线
144、一种实现真空容器内纳米光栅沉积基片位置操控的方法及其装置
145、基于陶瓷基片的高精度自动型钻孔机
146、用于放置玻璃基片的清洗支架
147、电子元件基片电极烧渗夹具
148、一种叠烧制备金属化陶瓷致冷基片的方法
149、双模基片集成波导源负载混合耦合滤波器
150、多层陶瓷基片集成波导滤波器
151、一种新型大面积双面超导薄膜基片夹具及其应用
152、压电石英基片高频率声表面横波谐振器
153、一种基片的滚动接触定位系统
154、玻璃基片架
155、玻璃基片架
156、玻璃基片架
157、一种设置在压电基片上的梯形滤波器
158、一种采用金属基片制备垂直GaN基LED芯片的设备
159、化学机械抛光水性组合物及钛基片化学机械抛光工艺方法
160、采用金属基片制备垂直GaN基LED芯片的设备
161、在玻璃或金属基片上沉积铜铟镓硒吸收层的设备
162、在玻璃或金属基片上沉积铜铟镓硒吸收层的设备
163、六边形谐振腔基片集成波导滤波器
164、一种基片加热装置
165、一种介质基片零层对准标记结构
166、太阳能电池板式PECVD设备用基片
167、在玻璃基片上制备稀土修饰石墨烯的陶瓷复合薄膜的方法
168、特别是用于光学、电子或光电子领域的基片的制造方法和根据所述方法获得的基片
169、陶瓷基片双面光刻结构
170、玻璃基片固定支架
171、一种平衡微带线过渡的半模双脊基片集成波导
172、一种具有光谱增强功能的透明生物基片的制备方法
173、非晶硅薄膜太阳能电池PECVD基片装载箱清洁系统及清洁方法
174、非晶硅薄膜太阳能电池PECVD基片装载箱清洁系统
175、一种谐振型基片集成波导功率合成器
176、具有反射欧姆接触电极的紫外发光二极管的基片
177、3D基片的加工工艺
178、基片夹持装置
179、基片切割装置
181、一种镶嵌式基片架的新型夹具
182、一种镶嵌式基片架的新型夹具
183、一种镀膜用多功能基片架
184、圆形光盘母盘玻璃基片平面度检测仪

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  • 开本:16开
  • 资料形式:DVD/U盘/电子版    正文语种: 简体中文
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  • 分类:专业技术
  • 咨询电话:18980857561联系客服
  • 资料说明:资料都是电子文档PDF格式,可在电脑中阅读、放大 缩小、打印,可以网传,也可以刻录在光盘或优盘中(加收40元)邮寄 ,如需纸质版客户可自行打印。资料具体内容包括技术开发单位信 息、技术原理、技术原文,技术配方、工艺流程、制作方法,设备 原理、机械设计构造、图纸等,是开发产品不可多得的专业参考资料。

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