请记住资料编号：GY10001-20155 资料价格:198元
1、介孔二氧化硅纳米马达及其制备方法和应用
[简介]： 介孔二氧化硅纳米马达及其制备方法和应用，本套资料涉及马达及其制备方法和应用。本套资料是要解决现有马达的尺寸大的技术问题。本套资料的介孔二氧化硅纳米马达是粒径为50～90nm的、部分表面溅射金属铂层的介孔二氧化硅粒子。制备...
2、介孔二氧化硅纳米马达及其制备方法和应用
[简介]： 本套资料属于光电子材料技术领域，是一种氧化锌掺杂的二氧化硅薄膜材料的制备方法。先将氧化锌粉末放入加工好的模具当中，利用压片机或者油压机把氧化锌粉末加工成原柱形，经过900～1200℃高温焙烧2～4小时，使之成为陶瓷靶。然后...
3、氧化锌掺杂的二氧化硅薄膜材料的制备方法
[简介]： 一种反应溅射二氧化硅与导电膜连镀的气体隔离装置，它是由隔离室和抽气泵组成，隔离室的两侧有镀膜室气体入口，隔离室两侧的镀膜室气体入口上置有阀门，隔离室接抽气泵。由于“气阱”的作用，本实用新型巧妙地使不同镀膜室之间...
4、反应溅射二氧化硅与导电膜连镀的气体隔离装置
[简介]： 一种具有中频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻璃在线联镀装置，依顺序连接有前端过渡真空室、中频反应磁控溅射SiO2镀膜室、气体隔离装置、ITO镀膜室和后端过渡真空室，前、后端过渡真空室分别接有扩散泵，气体隔离装置由两个相通...
5、具有中频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻璃在线联镀装置
[简介]： 一种大面积制备二氧化硅或者硅纳米线的控制生长方法，包括如下步骤：步骤1：在单晶硅片衬底上用物理气相沉积法、磁控溅射法或者化学气相沉积法沉积一层非晶态薄膜；步骤2：然后在密闭石英管反应腔内充入流动的N2、Ar、或者N2和...
6、大面积制备二氧化硅或者硅纳米线的控制生长方法
[简介]： 一种中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备，包括真空镀膜室、双靶、反应气体供气管道、工作气体供气管道、中频电源、压电阀控制器和压电阀，双靶装在屏蔽罩内，真空镀膜室内的反应气体供气管道位于双靶的对称中心线上，中频电源...
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